东方晶源的ILT技术能逆向优化掩模图案，采用GPU集群和人工智能技术解决相关问题，实现全芯片级掩模优化，其计算光刻平台PanGen®已广泛应用，对半导体产业意义重大。

🧐东方晶源是ILT技术的先驱之一，通过GPU集群和人工智能技术，解决了ILT计算量大和掩模复杂度等问题，实现了全芯片级别的掩模优化，提升了芯片制造的效率和质量。

🌟该技术的解决方案具有混合掩模优化方法、人工智能加速以及支持不同复杂度掩模设计等特点，这些特点使得东方晶源的ILT技术在市场上具有较强的竞争力。

🎉东方晶源的计算光刻平台PanGen®已形成八大产品矩阵，并在半导体产业中广泛应用，对提升制造良率和降低成本具有显著价值，为半导体产业的发展做出了重要贡献。

计算光刻技术是现代芯片制造的关键，随着制程进步，反向光刻技术（ILT）因能逆向优化掩模图案，已变得尤为重要。东方晶源作为ILT技术的先驱之一，通过采用GPU集群和人工智能技术，解决了ILT的计算量大和掩模复杂度等问题，实现了全芯片级别的掩模优化。其解决方案特点包括混合掩模优化方法、人工智能加速以及支持不同复杂度的掩模设计等，已在多个国内Fab厂商得到验证。东方晶源的计算光刻平台PanGen®已形成八大产品矩阵，并在半导体产业中广泛应用，对提升制造良率和降低成本具有显著价值，未来将持续技术创新，为我国半导体产业发展贡献力量。

媒体报道

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