🧐冠石半导体是专业从事半导体光掩模版制造的企业，致力于45 - 28nm半导体光掩模版的规模化生产，此光刻机的引入将助力其技术发展。

📷光掩模版是微电子制造中光刻工艺的图形转移工具，类似于相机的‘底片’，在半导体产业链中作为上游重要原材料，承载着图形设计和工艺技术等知识产权信息。

🌟我国高精度光掩模版的发展仍面临挑战，冠石半导体引入先进光刻机，有望在一定程度上推动我国光掩模版产业的进步，提高我国在半导体领域的竞争力。

冠石半导体入场首台先进电子束掩模版光刻机 近日，宁波冠石半导体有限公司迎来关键节点，企业引入首台电子束掩模版光刻机。据悉，该设备是光掩模版40纳米技术节点量产及28纳米技术节点研发的重点设备。 宁波冠石半导体公司是一家专业从事半导体光掩模版制造的企业，企业主要从事45-28nm半导体光掩模版的规模化生产。光掩模版是微电子制造中光刻工艺所使用的图形转移工具或母版，其功能类似于相机的“底片”。作为半导体产业链上游重要的原材料之一，光掩模版是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。目前，我国高精度