在半导体制造和纳米技术领域，光刻技术一直是推动行业发展的关键力量。近年来，电子束光刻（EBL）技术以其极高的分辨率和精度，逐渐成为备受瞩目的焦点 杭州日报报道，近日，位于杭州城西科创大走廊的浙江大学成果转化基地传来重大喜讯：全国首台国产商业电子束光刻机“羲之”已进入应用测试，其精度与国际主流设备相当。从报道获悉，“羲之”以东晋书法家王羲之的名字命名，其“毛笔”则是高能电子束，能够在芯片上刻写电路。该设备专攻量子芯片和新型半导体研发的核心环节，精度达到 0.6 纳米。 （一）与极紫外光刻（EUV）