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国产光刻机终于搞清楚了你们有问题可以问我了
光刻机现在最先进的是浸润式的，就是在光刻机加一层水，通过水的折射率提高光源的精度。因为当时的光源193纳米的紫外光已经做到尽头了。
半导体行业已经发展不下去了，类似于你螺旋桨飞机，你无论怎么改进，终究还是速度有限。就像马车，你把马抽死也跑不过汽车。
后面阿斯麦发明了加水的光刻机，才拯救了光刻机行业。阿斯麦也是从这个时候开始成为光刻机霸主。
好了，国产光刻机就是螺旋桨飞机，光源193纳米的，大概相当于阿斯麦1999左右的干式光刻机的水平。但是并不带表我们和阿斯麦的距离在20年，可能要更久
如果光刻机你想成为世界领先水平，你是必须要走浸润式的，这是没有办法的。就像飞机你要超音速，必须要喷气式。
真正的突破是浸润式原型机，有了浸润式才有机会一步步改进。
日本尼康2023年12月份，发布了最新的光刻机，38纳米，浸润式。所以我们现在的水平不要说赶上阿斯麦，距离日本尼康都还有很大的距离。
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