今日上午，光刻机板块集体走高，截止发稿，同飞股份、波长光电20cm涨停，张江高科、海立股份、京华激光涨停，茂莱光学、苏大维格、富乐德、联合光电等纷纷大涨。消息面上，工信部印发《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》。其中在电子专用装备目录下，集成电路生产装备包括氟化氩GKJ，光源193纳米，分辨率≤65nm，套刻≤8nm。 国产DUV光刻机迎突破，量产28nm意义重大 近日，工业和信息化部印发《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024 年版）》通知。据“工信微报”介绍，重大技术装备是国之重器，事关综合国力和国家安全。值得注意的是，在重大技术装备文件列表中包含了国产氟化氪光刻机（110nm），和氟化氩(ArF)光刻机（65nm）的内容。氟化氪（KrF）和氟化氩（ArF）两种气体均服务于深紫外（DUV）光刻机，产生深紫外光的准分子激光器。并且氟化氩光刻机和氟化氪光刻机两者均属于DUV光刻机。目前来说，光刻机共经历了五代的发展，从最早的 436nm 波长，再到第二代光刻机开始使用波长 365nm i-line，第三代则是 248nm 的 KrF 激光，第四代就是 193nm 波长的 ArF 光刻机，属于干式DUV光刻机。根据信息，其中ArF（氟化氩）光刻机，光源为193纳米，分辨率≤65nm，套刻≤8nm。套刻精度通常被指为“多重曝光能达到的最高精度”，按套刻精度与量产工艺1:3的关系，这个光刻机大概可以量产28nm工艺的芯片，大致相当于20年前ASML的1460K。28nm虽然不是特别先进技术，但意义依然重大，因为这是芯片中低端和中高端的分界线，目前除了最先进的CPU、GPU、AI芯片外，其余的工业级芯片大多都是28nm以上技术。这也意味着中国工业实现独立，国内的空调洗衣机汽车等各类工业品，可以突破西方国家设置的重重封锁，自主生产销售。 国产光刻机技术持续突破 在此之前，国产光刻机相关公开信息较少，保密程度高，但今年以来，国内光刻设备及曝光工艺公开信息逐渐增多。3月22日，华为公开四重曝光工艺技术改进优化的专利；6月20日，工信部发布《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》公示稿（后于9月9日正式发布）；9月10日，上海微电子公开“极紫外辐射发生装置及光刻设备”的专利。驱动光刻机信息公布的因素或有两个，一是美国大幅提高对中国的芯片关税，二是荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）进一步收紧先进DUV的出口。申万宏源证券认为，官方披露核心设备进展提振市场信心，国产光刻机相关产业链受益，国内晶圆厂扩产自主可控可期，国产半导体设备整体受益。民生证券表示，海外半导体设备供给持续高增满足短期扩产需求，国产光刻机技术亦在持续突破，利好半导体设备自主可控的长期发展，继续看好国内晶圆厂的投资增长和国产半导体设备的国产化机遇。 相关概念股一览：波长光电（300847）：公司光刻机平行光源系统可用于国产光刻机领域配套，并已交付多套系统。苏大维格（300331）：向微电子提供光刻机用的定位光栅产品。福晶科技（002222）：全球最大的LBO、BBO非线性光学晶体生产商。炬光科技（688167）：提供光刻机曝光系统核心元器件光场匀化器。京华激光（603607）：控股的美国菲涅尔制版科技在光刻机微结构光学方面实力较强。赛微电子（300456）：子公司Silex为全球光刻龙头公司提供微镜系统。茂莱光学（688738）：公司在光刻机领域提供用于匀光、中继照明模块的光学器件、投影物镜，以及用于工件台位移测量系统的棱镜组件。腾景科技（688195）：公司合分束器应用于光刻机光学系统，多波段合分束器已进入微电子供应链。 格隆汇声明：文中观点均来自原作者，不代表格隆汇观点及立场。特别提醒，投资决策需建立在独立思考之上，本文内容仅供参考，不作为实际操作建议，交易风险自担。
