Cnbeta 02月14日
台积电2nm、Intel 18A工艺首次对比:一个更密、一个更快
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TechInsights和SemiWiki的报告对比了台积电N2和Intel 18A两大尖端工艺。台积电N2预计今年下半年大规模量产,首发客户为苹果,AMD Zen6也可能使用。研究显示,N2高密度标准单元晶体管密度为每平方毫米3.13亿个,超过Intel 18A和三星SF2。Intel 18A官方称进展顺利,也将在今年下半年投入量产,首款产品代号Panther Lake。Intel 18A引入PowerVia背部供电技术,提升晶体管密度和性能,而台积电N2没有此技术。功耗方面,N2预计比三星SF2更省电。

📈晶体管密度:台积电N2高密度标准单元晶体管密度为每平方毫米3.13亿个,优于Intel 18A的每平方毫米2.38亿个和三星SF2的每平方毫米2.31亿个。但实际应用中,不同工艺节点有特殊设计,数据仅供参考。

⚡️性能优势:TechInsights认为Intel 18A在性能上优于台积电N2和三星SF2,但具体表现取决于实际产品。Intel 18A引入PowerVia背部供电技术,可显著提升晶体管密度和性能,这是台积电N2所不具备的。

🔋功耗表现:TechInsights分析认为,台积电N2在功耗方面优于三星SF2,能效是台积电的优势。Intel 18A的功耗表现还需要进一步观察。

半导体研究机构TechInsights、SemiWiki公布了台积电N2 2nm级别、Intel 18A 1.8nm级别两大尖端工艺的诸多细节,并进行了正面对比,发现各有优势。但需要首先强调,因为目前官方资料还不全,而且不同厂商的工艺各有特色,很难直接对比优劣,所以本文仅供参考,实际表现取决于具体产品。

Intel 18A官方称进展顺利,将在今年下半年投入量产,首款产品代号Panther Lake,主要面向笔记本移动端。

台积电N2也会在今年下半年大规模量产,首发客户还是苹果,AMD Zen6预计也会使用。

根据研究,台积电N2的高密度标准单元(HD standard-cell)晶体管密度为每平方毫米3.13亿个,超过Intel 18A的每平方毫米2.38亿个、三星SF2(原名SF3P)的每平方毫米2.31亿个。

当然,这里说的只是按照标准单元晶体管的统计,但在实际应用中,不同工艺节点有自己的特殊设计,比如台积电的FinFlex、NanoFlex,不同产品更会使用不同的晶体管单元,包括高密度(HD)、高性能(HP)、低功耗(LP)。

性能方面,TechInsights相信,Intel 18A对比台积电N2、三星SF2都有优势,不过这个也取决于具体产品。

TechInsights的计算方法也存在疑问,因为他是以台积电N16FF 16nm、三星14nm作为基准,按照各自宣布的提升幅度,计算而来的,肯定存在偏差。

另外,Intel 18A工艺引入了PowerVia背部供电技术,可以大大提升晶体管密度和性能,台积电N2是没有的。

功耗方面,TechInsights分析认为,台积电N2要比三星SF2更省电,而能效也是台积电的一贯优势。

至于Intel方面,还需要观察,相信不会太差。

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