佳能向美国德克萨斯电子研究所运送纳米压印光刻系统，该系统采用NIL技术，可生产5nm制程半导体，在成本和设备规模上有优势，但与现有光刻产线不兼容，部分存储芯片厂商对其感兴趣。
🥇佳能的纳米压印光刻系统FPA-1200NZ2C采用NIL技术，无需EUV光刻机就能生产最小5nm制程的逻辑半导体，此技术在半导体制造领域具有重要意义。该系统具有降低整体设备投资的优势，能将投资降至EUV光刻产线设备的40%。
💡尽管NIL技术成本和设备规模有优势，但它与现有基于DUV或EUV光刻的产线不兼容，这可能会限制其在初期的推广。不过，佳能表示会继续推进该技术在半导体制造领域的研发。
🤝存储芯片厂商如SK海力士、铠侠和美光对NIL设备表现出了兴趣，这显示出该技术在行业内受到一定的关注，可能为半导体制造带来新的发展机遇。
佳能公司宣布向位于美国德克萨斯州的德克萨斯电子研究所运送其最新的纳米压印光刻系统FPA-1200NZ2C，该系统采用NIL技术，可在不需要EUV光刻机的情况下生产最小5nm制程的逻辑半导体。与ASML的EUV光刻机相比，佳能的NIL技术在成本和设备规模上具有明显优势，能够降低整体设备投资至EUV光刻产线设备的40%。TIE将使用这台设备进行先进半导体的研发和原型生产。尽管NIL技术与现有基于DUV或EUV光刻的产线不兼容，可能限制其初期推广，但佳能表示将继续推进NIL技术在半导体制造领域的研发，为行业发展做出贡献。存储芯片厂商如SK海力士、铠侠和美光对NIL设备表现出了兴趣。
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