来源：雪球App，作者： 霸蛮invest，（https://xueqiu.com/4299879533/304739764）
不用看到套刻精度就激动，这不是最新进度。目录里的是65nm精度ARF干式DUV光刻机，燕东微很早就公开表示在用了。真正的突破要等ARFi浸没式DUV光刻机(区别在于那个i)。这个浸没式的才能用于28nm制程。如果硬要拿65nm制程的光刻机来制作28nm的芯片，既没有效率且成本高昂。等到ARFi浸没式光刻机突破的那天才叫新闻。$张江高科(SH600895)$
🧐65nm精度的ARF干式DUV光刻机，燕东微很早就公开表示在使用。此光刻机虽存在，但并非最新技术进展，在制程方面有一定限制
🌟真正的技术突破在于ARFi浸没式DUV光刻机，其区别在于那个‘i’。这种光刻机能够用于28nm制程，是实现更先进芯片制造的关键
🚫若硬用65nm制程的光刻机来制作28nm的芯片，不仅效率低下，而且成本高昂。因此，等待ARFi浸没式光刻机的突破才是真正的重要新闻
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不用看到套刻精度就激动，这不是最新进度。目录里的是65nm精度ARF干式DUV光刻机，燕东微很早就公开表示在用了。真正的突破要等ARFi浸没式DUV光刻机(区别在于那个i)。这个浸没式的才能用于28nm制程。如果硬要拿65nm制程的光刻机来制作28nm的芯片，既没有效率且成本高昂。等到ARFi浸没式光刻机突破的那天才叫新闻。$张江高科(SH600895)$
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