快科技资讯 2024年09月12日
良品率还不到20%!三星2nm工艺仍旧不堪大用
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三星2nm工艺良率仅为10-20%,远低于台积电的60-70%,导致三星计划更大规模裁员。三星2nm工艺采用MBCFET架构,旨在提升性能,但良率问题严重阻碍了量产进程。目前,台积电在全球晶圆代工市场占据主导地位,三星市场份额持续下降,面临着巨大压力。

🤔三星2nm工艺良率低迷,目前仅为10-20%,远低于台积电的60-70%。这使得三星在2nm工艺的量产方面面临着巨大的挑战,无法满足市场需求。

😔为了应对良率低迷的困境,三星计划在海外更大规模地裁员,从美国得克萨斯州的泰勒工厂撤回更多人员。这反映出三星在先进工艺领域正面临着巨大的压力。

💪三星2nm工艺采用MBCFET架构,旨在提升性能,与基于FinFET的工艺技术相比,晶体管性能提升最多46%,可变性降低26%,漏电率降低约50%。然而,良率问题严重阻碍了该技术的量产进程。

📉目前,台积电占据全球晶圆代工市场62.3%的份额,遥遥领先,三星虽然名义上是第二,但份额仅为11.5%,就连我国中芯国际都冲到了第三,已占据5.7%。三星在晶圆代工市场上的份额持续下降,面临着巨大的竞争压力。

在不靠谱这台路上,三星似乎一直很靠谱……

根据集邦咨询的最新报告,三星的2nm工艺仍然面临极大困难,目前的良品率只有可怜的10-20%,完全无法投入量产。

受此压力,三星计划在海外更大规模地裁员,从美国得克萨斯州的泰勒工厂撤回更多人员。

事实上,据称三星晶圆厂的整体良品率都不到50%,尤其是在3nm及更先进工艺上非常差劲。

要知道,台积电的整体良率约有60-70%。

三星官方的计划是,2025年量产2nm,包括SF2、SF2P、SF2X、SF2A、SF2Z等多个不同版本,2027年继续量产1.4nm。

据悉,三星2nm工艺进一步完善了多桥-通道场效应晶体管(MBCFET)架构,具有独特的外延和集成工艺,与基于FinFET的工艺技术相比,晶体管性能提升最多46%,可变性降低26%,漏电率降低约50%。

此前还有说法称,三星3nm工艺良率不到20%,三星对此回应称,其在2022年全球首次量产3nm GAA工艺之后,第二代3nm工艺性能稳定,且产量已步入正轨。

目前,台积电占据全球晶圆代工市场62.3%的份额,遥遥领先,三星虽然名义上是第二,但份额仅为11.5%,就连我国中芯国际都冲到了第三,已占据5.7%。

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