作者看好半导体自主可控，提及先进制程受限，多重曝光制造高精度芯片将长期存在，光刻耗材中掩模版弹性大，且市场上做第三方掩模版的企业少，还期待国产光刻机的突破。

🧐半导体自主可控备受关注，先进制程出口被限制，多重曝光成为制造高精度芯片的手段，这一情况将长期持续，凸显了半导体产业面临的挑战与机遇。

💡光刻耗材中，掩模版的重要性不容忽视。其在光刻过程中占比较大，弹性高于光刻胶，且做第三方掩模版的市场参与者有限，市场竞争格局相对集中。

🤔作者对国产光刻机的突破充满期待，认为这种突破新闻能打破封锁，转移矛盾，使市场沸腾，为半导体产业带来整体反转的机会，尽管目前这还只是一种幻想。

来源：雪球App，作者： 金浤，（https://xueqiu.com/8374538036/303847395）

守了挺久掩膜板了，也是因为看好半导体的自主可控。现在被进一步限制先进制程gkj出口，目前破解手段也只有多重曝光来制造高精度芯片。
国产gkj即使短期造出来，可能制程也无法立即追上euv，所以多重曝光将会长期存在。而光刻耗材除了硅片占比最大的就是掩模版，弹性最大高于光刻胶，而且做第三方掩模版的市场上也就那几家。
另外也挺期待国产光刻机能早点拉出来或者放出风声，这种突破新闻可以打破封锁，转移了矛盾迎来团结，市场也会沸腾，从而迎来整体反转的机会。当然也只是幻想看看。