日本冲绳科学技术大学院大学设计了一种极紫外光刻技术，该技术能大幅提高能源效率并降低半导体制造成本。光刻设备采用更小EUV光源，功耗低，可降低成本并提高机器可靠性和使用寿命。

🎯日本冲绳科学技术大学院大学设计的极紫外光刻技术，超越了半导体制造业标准界限，具有重要意义。

💡此光刻技术的设备采用较小的EUV光源，功耗不到传统EUV光刻机的十分之一，显著降低了成本。

🌟该技术还大幅提高了机器的可靠性和使用寿命，为半导体制造带来积极影响。

最细催化：【极紫外光刻新技术问世能大幅提高能源效率并降低半导体制造成本】 财联社8月2日电，据日本冲绳科学技术大学院大学（OIST）官网最新报告，该校设计了一种极紫外（EUV）光刻技术，超越了半导体制造业的标准界限。基于此设计的光刻设备可采用更小的EUV光源，其功耗还不到传统EUV光刻机的十分之一，从而降低成本并大幅提高机器的可靠性和使用寿命 奥普光电：公司控股股东长春光机所拥有国家科技重大专项(02专项)极紫外(EUV)光刻关键技术研究 英诺激光：在半导体领域，大能量、高重频超快激光是支撑EU