全文摘要 1、光刻机技术原理与核心指标 ·分辨率提升三要素：光刻机分辨率提升集中在三方面。光源波长是提升分辨率的关键因素，其发展从早期汞灯光源的g线、a线，到氟化氪、氟化氩准分子激光器，最终到EUV光源，波长缩短是核心工艺。光源发展到一定阶段后，数值孔径提升对分辨率改善很重要。增大数值孔径有两种方式：增大物镜收光角、提高介质折射率。浸没式光刻机通过液体介质提升折射率增大数值孔径，是光刻机发展重要跃迁，提升了整体分辨率。工艺因子受掩膜板图形、照射角度等多因素影响，反映光刻技术能力。不同工厂的工艺因