催化 本实用新型涉及一种光刻工艺匀胶机匀胶腔结构，主要包括包括匀胶腔外腔体结构、匀胶头机构、支架机构，本实用新型背胶保护罩-方面起到机械防护的作用，另一方面通过注入氮气，在背胶保护罩与芯片之间形成微正压环境，氮气气流从背胶保护罩下面进入，从背胶保护置与芯片之间的缝隙排出，对胶丝起到吹扫作用，做到了双重防护功能。配合匀胶头机构的取片和匀胶两个工作状态，通过芯片背面的保护罩机械保护和氮气保护双重保护功能，实现了芯片在匀光刻胶的过程中背胶保护功能，彻底解决了背胶玷污问题摆脱了工艺返工(提高生产过程的良