佳能公司向美国德克萨斯电子研究所（TIE）交付了其最先进的纳米压印光刻（NIL）系统FPA-1200NZ2C，该系统可实现最小14nm线宽的图案化，支持5nm制程逻辑半导体的生产，并将在TIE用于先进半导体的研发和原型生产。佳能CEO御手洗富士夫此前曾表示，该公司的纳米压印设备价格将比ASML的EUV光刻机低一位数，这将为半导体制造商提供更具竞争力的选择。

🎉佳能向美国德克萨斯电子研究所（TIE）交付了其最先进的纳米压印光刻（NIL）系统FPA-1200NZ2C，该系统可实现最小14nm线宽的图案化，支持5nm制程逻辑半导体的生产。这将为TIE提供先进的设备，用于先进半导体的研发和原型生产。

💰佳能CEO御手洗富士夫此前曾表示，该公司的纳米压印设备价格将比ASML的EUV光刻机低一位数，这将为半导体制造商提供更具竞争力的选择。这意味着，采用佳能的NIL系统，半导体制造商可以节省大量的成本，从而提高其产品的竞争力。

💪佳能的NIL系统FPA-1200NZ2C的交付，标志着佳能在半导体制造领域迈出了重要的一步。该系统将帮助佳能进一步巩固其在半导体制造设备市场的地位，并为未来的发展提供新的机遇。

🚀NIL技术作为一种新兴的半导体制造技术，近年来发展迅速，并逐渐成为EUV光刻机的有力竞争者。佳能的NIL系统FPA-1200NZ2C的交付，将进一步推动NIL技术的发展，并为半导体制造行业带来新的变革。

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2024年9月26日，佳能公司宣布，已于9月26日向总部位于美国德克萨斯州的半导体联盟——德克萨斯电子研究所 （TIE） 运送其最先进的纳米压印光刻 （NIL） 系统FPA-1200NZ2C 。 佳能CEO御手洗富士夫此前曾表示，该公司的纳米压印设备的“价格将比ASML的EUV光刻机低一位数（即仅有10% 佳能的 FPA-1200NZ2C 系统可实现最小 14nm 线宽的图案化，支持 5nm 制程逻辑半导体生产。该设备将在得克萨斯电子研究所用于先进半导体的研发和原型的生产 苏大维格：公司是国内首