🎯佳能的纳米压印光刻系统FPA-1200NZ2C能够实现14nm线宽的图案化，这一技术在半导体生产中具有重要意义。该系统通过非光学手段压印电路图形，无需光学步骤，为半导体制造带来了新的可能性。
🌟得克萨斯电子研究所是2021年成立的半导体联盟，由当地多方支持，旨在推进半导体技术研发。佳能向其交付先进光刻系统，将有助于该研究所的研究工作和半导体技术的发展。
💪佳能的纳米压印光刻系统具有低功耗、低成本的优势。这使得半导体生产在成本控制和能源消耗方面得到了优化，对于提高半导体产业的竞争力具有积极作用。
🚀该系统将用于先进半导体的研发和原型生产，这将为半导体技术的创新和发展提供有力支持，推动半导体行业向更高制程迈进。
佳能宣布向位于美国的半导体联盟——得克萨斯电子研究所交付先进的纳米压印光刻系统FPA-1200NZ2C，该系统能够实现14nm线宽的图案化，支持5nm制程逻辑半导体生产。得克萨斯电子研究所是一家成立于2021年的联盟，由当地政府、企业、国家研究机构和大学支持，旨在推进半导体技术研发。该系统通过非光学手段压印电路图形，无需光学步骤，具有低功耗低成本的优势，并将用于先进半导体研发和原型生产。
| 佳能向美国得克萨斯电子研究所交付其最先进纳米压印光刻 NIL 系统 | 中关村在线/IT 之家 |
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| 佳能向得克萨斯电子研究所交付其最先进纳米压印光刻 NIL 系统 | ZAKER |
| 2024-01-28 15:15:59 | 佳能：目标最快今年开始交付低成本纳米压印设备 |
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