🧪国林科技子公司国林半导体的臭氧设备产品从2022年下半年开始市场导入，2023年在半导体、面板、科研等行业领域陆续出货验证。该产品可应用于化学气相沉积、原子层薄膜沉积、晶圆清洗、污染物及光刻胶去除等工艺中，具有重要的市场价值和应用前景。

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📋国林科技拟吸收合并全资子公司国林流体、国林新能源，这一举措可能有助于优化公司资源配置，提高运营效率，增强公司的整体竞争力。

国林科技300786 低位潜力标底 光刻机： 光刻机 2023年9月14日互动易回复：子公司国林半导体臭氧设备产品从2022年下半年开始进行市场导入，2023年以来陆续在半导体、面板、科研等行业领域出货验证，该产品用于化学气相沉积（CVD）、原子层薄膜沉积（ALD）、晶圆清洗、污染物及光刻胶去除等工艺中。 光刻胶： 光刻胶 2021年8月27日调研活动信息：在光刻胶清洗过程当中需要用到公司的装置。 并购重租： 国林科技(sz300786)O拟吸收合并全资子公司国林流体、国林新能源 光刻机 工信部