南大光电坚持光刻胶技术自主研发,其子公司光刻胶研发中心具备完整研发能力,多款ArF光刻胶产品通过客户认证并实现销售,提升公司竞争力,助力我国半导体产业自主可控发展。
🎯南大光电在光刻胶技术研发上走自主化道路,其控股子公司宁波南大光电的光刻胶研发中心拥有从原材料到产品的完整研发能力,为公司的光刻胶研发提供了坚实的基础。
🎉报告期内,公司多款ArF光刻胶产品成功通过下游客户认证并实现销售,这表明公司的光刻胶产品在质量和性能上得到了市场的认可,提升了公司在光刻胶市场的地位。
💪南大光电专注于ArF193nm光刻胶的研发和产业化,这种光刻胶是先进集成电路芯片制造所必需的,公司的这一研发方向有助于推动我国半导体产业向高端化发展。

光刻胶作为半导体制造中不可或缺的关键材料,其技术研发对于提升我国半导体产业的自主可控能力具有重要意义。南大光电在光刻胶技术研发上坚持走自主化道路,其控股子公司宁波南大光电的光刻胶研发中心已具备从原材料到产品的完整研发能力。报告期内,公司多款ArF光刻胶产品成功通过下游客户认证并实现销售,标志着公司在高端光刻胶领域取得了重要进展。这一成就不仅提升了公司的市场竞争力,更为我国半导体产业的自主可控发展注入了新的活力。 南大光电专注于ArF 193nm 光刻胶的研发和产业化。这种光刻胶是先进集成电路芯片