🧐光刻机对国内半导体意义重大，其能明确补上国内半导体最后短板，使悬念落地。量产光刻机按账面数据落后十几年，其中分辨率存在干式和浸润式的差距，浸润式因晶圆放在超纯水中，光线折射后可提高分辨率。

😮重复定位精度即套刻精度也有差距，这与检测手段、控制系统、伺服电机精度有关。不过国内在这方面产业基础雄厚，有需求，追赶速度应该较快。

🤔作者判断DUV短则2、3年，长则5年可追平，而EUV只要光源突破，在DUV基础上也会很快实现。因此，国内半导体设备股票如中微公司等值得高看一眼。

来源：雪球App，作者： 老笨2点0，（https://xueqiu.com/9819544564/304735257）

讨论下光刻机，也不让说了。写了半天，不过审，好吧。

主要观点：

意义在于国内半导体最后短板被明确补上，悬念落地。

量产光刻机按照账面数据，落后十几年。目前有人猜测分辨率问题是干式和浸润式的差距，因为浸润式NA值可以做到1.35，这是晶圆放在超纯水里，光线折射后提高了分辨率。

另一个差距是重复定位精度，就是套刻精度。这跟检测手段，控制系统，伺服电机精度有关。但是这一块国内产业基础还比较雄厚，有需求，追赶起来应该很快。

最后我个人的判断，DUV要追平，短则2，3年，长则5年，基本上可以达到。至于EUV，只要光源突破，有DUV的基础在，也很快。

国内半导体设备股票，例如中微之类，要高看一眼了。$中微公司(SH688012)$