四重爆光技术使光刻胶、掩膜版等需求提升,终端芯片制程越高,对半导体国产替代全产业链需求越大,文中提及冠石科技和路维光电的相关情况。
🧐光刻胶、掩膜版等因四重爆光技术需求大幅提升。终端芯片制程的提高,加大了对半导体国产替代全产业链的需求。这意味着相关产业将面临更多的机遇与挑战。
🎉冠石科技的光掩膜版制造项目1月27日顺利封顶,7月中旬首台电子束掩膜版光刻机顺利交付。此设备是光掩膜版40纳米技术节点量产及28纳米技术节点研发的重点设备。
🌟路维光电立足于平板显示掩膜版和半导体掩膜版两大核心产品线,逐步形成“以屏带芯”的业务发展格局,展现出其在掩膜版领域的独特布局和发展战略。
四重爆光技术(SAQP)对相关材料、设备的需求也大幅提升,包括光刻胶、掩膜版。终端芯片的制程越高,对半导体国产替代全产业链的需求越大。 掩膜版: 冠石科技:公司光掩膜版制造项目已于 1 月 27 日顺利封顶。目前公司正在按照既定计划,稳步推进各项工作,,7月中旬,首台电子束掩膜版光刻机顺利交付,公司本次交付的电子束掩膜版光刻机设备是光掩膜版40纳米技术节点量产及28纳米技术节点研发的重点设备。 路维光电:公司立足于平板显示掩膜版和半导体掩膜版两大核心产品线,逐步形成“以屏带芯”的业务发展格局,公