IT之家 2024年09月04日
SK 海力士突破 HBM 堆叠层数限制,MR-MUF 和混合键合封装两手抓
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SK海力士正在开发16层HBM4内存,强调异构集成技术的重要性,以提高产品性能,还提及与台积电合作及多种先进技术的应用。

🎈SK海力士重视异构集成技术,该技术可使公司进一步提升第6代HBM4产品性能,目前8层和12层HBM3E数据处理能力强,HBM4将提供12层和16层产品,性能更优。

💻SKHynix和台积电合作开发HBM4,计划2025年量产,关键是使用台积电5纳米工艺创建HBM4封装底部的基底芯片,且基底芯片对控制HBM性能起重要作用。

🌟SK海力士采用先进MR-MUF技术,具有低粘合压力和温度应用、批量热处理等优势,在散热方面性能突出,该技术已用于批量生产多种产品,且HBM4的部分产品也将使用。

IT之家 9 月 4 日消息,SK 海力士封装研发副社长李康旭(Kangwook Lee)于 9 月 3 日出席“2024 年异构集成全球峰会”,发表了名为“面向人工智能时代的 HBM 和先进封装技术”的演讲,表示公司正在开发 16 层 HBM4 内存。

Lee 在演讲中强调异构集成技术(封装不同工艺的半导体芯片)重要性日益凸显,通过合理利用该技术,海力士将进一步提高第 6 代 HBM4 产品(计划明年产量)的性能。

目前的 8 层和 12 层 HBM3E 每秒可处理超过 1.18TB (太字节)的数据,并支持高达 36GB 的容量。HBM4 将提供 12 层和 16 层产品,最大容量为 48GB,数据处理速度超过每秒 1.65TB。

Lee 表示:“通过在 HBM4 的基础芯片上应用逻辑工艺,我们预计性能和能效都将得到提升”。

SK Hynix 和台积电正在合作开发 HBM4,计划于 2025 年量产。开发的关键是使用台积电的 5 纳米工艺来创建 HBM4 封装底部的基底芯片。

HBM 是在基底芯片上堆叠多个 DRAM,并使用 TSV(硅通孔)技术将它们垂直连接起来。基底芯片连接到 GPU(图形处理单元)并控制 HBM 的性能。

Lee 还强调了 SK Hynix 采用的先进 MR-MUF 技术的优势。MR-MUF 封装技术可实现低粘合压力和温度应用以及批量热处理,与其他工艺相比,在散热方面具有 30% 以上的性能优势。

IT之家援引他的演讲内容:“我们正在为 16 层产品准备先进的 MR-MUF 和混合键合(Hybrid Bonding)方法,并计划选择满足客户需求的最佳方法”。

SK 海力士目前正在利用 MR-MUF 技术批量生产 HBM3 和 HBM3E 8 层产品,并利用先进的 MR-MUF 技术批量生产 12 层产品,HBM4 12 层产品也将使用同款技术,这些产品计划于明年下半年出货。此外,SK Hynix 还在为 HBM4 之后的第七代 HBM4E 做准备。

以上图源:technews

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