捷佳伟创首台钙钛矿GW级磁控溅射立式真空镀膜设备PVD2400V顺利出货，幅宽2400mm，对应1200x2400基板，显示其掌握相关高新技术并满足市场需求。

🧐捷佳伟创的PVD2400V钙钛矿GW级磁控溅射立式真空镀膜设备成功出货。该设备幅宽达到2400mm，可对应1200x2400基板，这一规格使其在同类设备中具有一定的优势。设备的成功交付，是捷佳伟创在钙钛矿真空镀膜领域技术实力的体现。

🤔PVD2400V设备的成功研制，表明捷佳伟创深度掌握了钙钛矿真空镀膜设备的高新技术。这意味着该公司在技术研发方面取得了重要突破，为其在市场竞争中赢得了先机。

😮该设备的顺利出货满足了市场发展需求。随着钙钛矿技术的不断发展，对相关设备的需求也在增加。捷佳伟创的这一产品，为钙钛矿产业的发展提供了有力的支持。

e公司讯，近日，捷佳伟创首台钙钛矿GW级磁控溅射立式真空镀膜设备PVD2400V顺利出货。PVD2400V幅宽2400mm，对应1200x2400基板。该设备的成功交付，表明了捷佳伟创深度掌握钙钛矿真空镀膜设备的高新技术，满足市场发展需求。