英特尔将与日本产业技术综合研究所合作，在日本建立配备EUV设备的芯片研发基地，三到五年内建成，设备制造商和材料公司可付费使用该设施进行原型设计和测试。

🥇英特尔将与日本产业技术综合研究所（AIST）合作，在日本建设芯片研发基地。此基地将在未来三到五年内落成，旨在推动芯片技术的发展，提升双方在该领域的竞争力。

💻新设施将配备极紫外线光刻（EUV）设备，这是日本首个行业成员可共同使用EUV设备的中心。该设备将为芯片研发提供先进的技术支持，有助于提高芯片的性能和质量。

💰设备制造商和材料公司需付费使用该设施进行原型设计和测试。这种商业模式既能为研发基地带来收益，又能促进相关企业之间的合作与交流，共同推动行业的发展。

IT之家 9 月 3 日消息，日经报道称，英特尔将与日本产业技术综合研究所（AIST）在日本建立芯片研发基地，新设施将在三到五年内建成，配备极紫外线光刻（EUV）设备。

设备制造商和材料公司将付费使用该设施进行原型设计和测试。据介绍，这将是日本第一个行业成员能够共同使用极紫外光刻设备的中心。

IT之家查询获悉，产业技术综合研究所隶属经济产业省，是日本一家设法使用集成科学和工程知识来解决日本社会和经济发展需要的研究机构，总部位于东京，2001 年成为独立行政机构的一个新设计的法律机构。