ReadHub 2024年09月03日
消息称三星电子测试 TEL 公司 Acrevia GCB 设备以改进 EUV 光刻工艺
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三星正在测试TEL的AcreviaGCB气体团簇光束系统,该系统可精确整形EUV光刻图案等,有望提高产品良率,且三星此前已测试其他相关设备,以加强设备供应商间竞争。

🧐三星测试的TEL的AcreviaGCB气体团簇光束系统,能够精确整形EUV光刻图案,这有助于修复缺陷并降低粗糙度,从而提升光刻工艺的精度和质量。

💪该系统有望减少成本高昂的多重曝光,这对于降低生产成本、提高生产效率具有重要意义。通过减少多重曝光的需求,三星可以在一定程度上节省资源并提高产品的市场竞争力。

🎯TEL表示潜在客户正在进行系统测试,预计该系统首先用于逻辑代工。这意味着该系统在半导体制造领域的应用具有针对性,有望为逻辑代工产业带来新的发展机遇。

🤝三星此前已在4nm工艺上测试了应用材料的CenturaSculpta系统,如今测试TEL设备,加强了两大半导体设备供应商间的图案塑形订单竞争,推动了行业的发展。

三星正在测试TEL的Acrevia GCB气体团簇光束系统,该系统能精确整形EUV光刻图案,修复缺陷,降低粗糙度,有望减少成本高昂的多重曝光,提高产品良率。TEL表示潜在客户正在进行系统测试,预计首先用于逻辑代工。此前,三星已在4nm工艺上测试了应用材料的Centura Sculpta系统,如今测试TEL设备,以加强两大半导体设备供应商间的图案塑形订单竞争。

媒体报道

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消息称三星电子测试TEL公司Acrevia GCB设备以改进EUV光刻工艺C114 通信网/凤凰科技

事件追踪

2024-08-20 11:46:07三星冲击高端代工新挑战:削减 High-NA EUV 光刻机采购规模
2023-01-16 08:05:21三星电子开发出透光率达 88% 的 EUV 薄膜
2022-12-12 11:36:06三星:3nm 代工市场 2026 年将达 242 亿美元规模
2020-03-26 09:19:00三星采用极紫外光刻技术生产存储芯片

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