英特尔将与日本产业技术综合研究所(AIST)在日本建立芯片研发基地,新设施将在三到五年内建成,配备极紫外线光刻(EUV)设备。设备制造商和材料公司将付费使用该设施进行原型设计和测试。据悉,这将是日本第一个行业成员能够共同使用极紫外光刻设备的中心。(日经)
🧐英特尔与日本AIST合作,在日本建立芯片研发基地。该基地的建设计划在三到五年内完成,这显示了双方对于推动芯片技术发展的决心和长期规划。
💻基地将配备极紫外线光刻(EUV)设备,这是当前芯片制造中先进的技术之一。该设备的引入将有助于提高芯片的性能和制造精度,为研发高质量的芯片产品提供技术支持。
💰设备制造商和材料公司将付费使用该设施进行原型设计和测试。这种商业模式既可以为基地的运营提供资金支持,也可以促进相关企业之间的技术交流和合作。
英特尔将与日本产业技术综合研究所(AIST)在日本建立芯片研发基地,新设施将在三到五年内建成,配备极紫外线光刻(EUV)设备。设备制造商和材料公司将付费使用该设施进行原型设计和测试。据悉,这将是日本第一个行业成员能够共同使用极紫外光刻设备的中心。(日经)
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