三星正对TEL的Acrevia GCB系统进行测试，该系统可修复EUV光刻图案缺陷、降低粗糙度，作用类似应用材料CenturaSculpta系统，还可提升产品良率，预计先用于逻辑代工领域，此测试旨在加强设备供应商间竞争。

🧐TEL的Acrevia GCB系统于今年7月8日发布，能通过气体团簇光束对EUV光刻图案进行局部精确整形，以此修复图案缺陷，降低图案粗糙度，这一功能对提升光刻效果具有重要意义。

🤔业内认为该系统与应用材料CenturaSculpta系统作用类似，可直接对EUV曝光图案塑形，减少成本高昂的EUV多重曝光，缩短光刻流程并提升整体利润率，这显示了其在降低成本和提高效率方面的优势。

👍Acrevia系统还可用于消除在EUV光刻错误中占约一半的随机错误，从而提升产品良率，这对于提高产品质量和市场竞争力至关重要。

IT之家 9 月 3 日消息，据韩媒 The Elec 昨日报道，三星正对 Tokyo Electron (TEL) 的 Acrevia  GCB 气体团簇光束（IT之家注：Gas Cluster Beam）系统进行测试。

TEL 的 Acrevia  GCB 系统发布于今年 7 月 8 日，可通过气体团簇光束对 EUV 光刻图案进行局部精确整形，从而修复图案缺陷、降低图案粗糙度。

业内人士认为 TEL 的 Acrevia 系统可起到与应用材料 Centura Sculpta 系统类似的作用，即直接对 EUV 曝光图案塑形，减少成本高昂的 EUV 多重曝光，进而缩短光刻流程并提升整体利润率。

此外 Acrevia 系统还可用于消除在 EUV 光刻错误中占约一半的随机错误，提升产品良率。

TEL 相关人士表示潜在客户确实正在进行 Acrevia 系统测试，该设备预计将首先用于逻辑代工而非存储器领域。

此前三星电子已在 4nm 工艺上对应用材料的 Centura Sculpta 进行了测试，如今又测试 TEL 的设备，旨在加强两大半导体设备供应商间的图案塑形订单竞争。