三星计划削减对 High-NA EUV 光刻机的采购，并与 ASML 共同创建的研究中心项目遇到困难。原本三星计划在未来十年内采购多款 High-NA 光刻机，但现在仅计划采购 EXE:5200。这一决定是在公司高层人事变动和项目审查后做出的。同时，相关研究中心的建设进程也因设备引进减少而停止。研究中心的未来位置和是否继续建设将在进一步讨论中决定。

🤔三星原计划在未来十年内采购多款 High-NA EUV 光刻机，用于提升其芯片制造能力，并与 ASML 合作建立研究中心，共同推动先进芯片技术的研发。

😮然而，三星近期决定大幅削减 High-NA EUV 光刻机的采购量，仅计划采购 EXE:5200，并中止与 ASML 共同建设研究中心项目。

🧐这一决定可能是受公司高层人事变动和项目审查的影响，也可能是三星对市场需求和技术发展趋势的重新评估。

😕由于设备引进减少，研究中心的建设进程也因此停止，未来位置和是否继续建设尚待进一步讨论。

🤯三星削减 High-NA EUV 光刻机采购和中止研究中心项目，将对其实现高端代工目标造成一定影响。

🤔三星此举是否意味着其在芯片制造领域战略的调整？未来将如何应对竞争激烈的半导体市场？

🤔三星与 ASML 的合作关系是否会因此受到影响？未来双方在芯片技术领域的合作走向如何？

三星计划削减对High-NA EUV光刻机的采购，并与ASML共同创建的研究中心项目遇到困难。原本三星计划在未来10年内采购多款High-NA光刻机，但现在仅计划采购EXE:5200。这一决定是在公司高层人事变动和项目审查后做出的。同时，相关研究中心的建设进程也因设备引进减少而停止。研究中心的未来位置和是否继续建设将在进一步讨论中决定。

媒体报道

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