日本冲绳科学技术大学院大学开发出一项技术,可大幅降低极紫外光刻设备的耗电量和制造成本。这项技术将从设备的光源到光刻的EUV路径上配置的反光镜数量从原来的10个减少到4个。以EUV光源为中心,整体耗电量可减至原来的约十分之一。设备的结构也可大幅简化,因此当前估计需要200亿日元左右的设备引入成本几乎可以减半。
🥇日本冲绳科学技术大学院大学的这项技术,针对极紫外光刻设备进行改进。通过减少从设备光源到光刻的EUV路径上配置的反光镜数量,从原来的10个降至4个,实现了降低耗电量的目标。以EUV光源为核心,耗电量可大幅降低至原来的约十分之一。
🎯该技术不仅降低了耗电量,还简化了设备结构。这使得原本估计需要200亿日元左右的设备引入成本能够几乎减半,为相关产业带来了显著的经济效益和发展潜力。
🌟这项技术的应用前景广阔。降低了极紫外光刻设备的成本和耗电量,将有助于推动半导体等相关产业的发展,提高生产效率,降低生产成本,增强市场竞争力。
日本冲绳科学技术大学院大学开发出一项技术,可大幅降低极紫外光刻设备的耗电量和制造成本。这项技术将从设备的光源到光刻的EUV路径上配置的反光镜数量从原来的10个减少到4个。以EUV光源为中心,整体耗电量可减至原来的约十分之一。设备的结构也可大幅简化,因此当前估计需要200亿日元左右的设备引入成本几乎可以减半。
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