🧪光刻胶，又名光致抗蚀剂，是半导体产品制造的关键材料，通过光化学反应进行图形转移，在集成电路和半导体分立器件细微加工中广泛应用。其历史可追溯到1826年，随着电子工业发展，光刻胶种类和技术不断进步，现已成为热点研究领域。

🎙国产光刻胶部分上市公司，如南大光电、彤程新材、晶瑞电材、雅克科技、华懋科技被称为国产光刻胶五虎，加上容大感光、上海新阳、广信材料则称为国产光刻胶八大金刚。

📋光刻胶分类多样，根据曝光光源或辐射源的不同有所区分，不同类型的光刻胶在半导体制造的不同环节中发挥着重要作用。

南大光电，彤程新材，晶瑞电材，雅克科技，华懋科技这5家上市公司共称为国产光刻胶五虎，再加上容大感光、上海新阳、广信材料共8家上市公司称为国产光刻胶八大金刚。 光刻胶，也称为光致抗蚀剂(photoresist)，是半导体产品制造中的关键材料之一。它利用光化学反应进行图形转移，广泛应用于电子工业中集成电路和半导体分立器件的细微加工过程中 。光刻胶的历史可以追溯到1826年，随着电子工业的发展，光刻胶的种类和技术不断进步，现在已经成为一个热点研究领域 。 光刻胶的分类多样，根据曝光光源或辐射源的不同，