京华激光发布股票交易风险提示公告，澄清其控股子公司美国菲涅尔制版科技公司研发的光刻机主要用于光学制版，而非半导体领域。该光刻机精度为微米级，与芯片光刻机的纳米级精度相差1000倍，且不具备升级为芯片光刻机的可能性。公司在光刻机领域的布局主要集中在光学制版用光刻机方面。

🤔 京华激光发布公告澄清其控股子公司研发的光刻机并非用于半导体领域，而是用于光学制版。 公司表示，其控股子公司美国菲涅尔制版科技公司主要从事光刻机的研发工作，所研发的光刻机主要用于光学制版，而非用于半导体领域。这种光刻机属于微米级，与芯片光刻机的纳米级精度相差1000倍，且不具备升级为芯片光刻机的可能性。 公司还强调，其在光刻机领域的布局主要集中在光学制版用光刻机方面，并不会涉足半导体领域的光刻机研发。

💡 该公告旨在消除市场对京华激光在半导体领域布局的误解。 近期，光刻机概念板块受到市场高度关注，部分投资者可能误以为京华激光所研发的光刻机能够用于半导体芯片制造。为了避免投资者对公司业务产生误解，京华激光发布了该公告，明确说明其光刻机并非用于半导体领域。

🧐 该公告发布后，京华激光股价出现回调。 市场对京华激光光刻机业务的预期有所下降，导致其股价出现回调。不过，公司在光学制版领域的布局依然具有较大的发展潜力，未来可能会继续加大对该领域的投入。 需要注意的是，京华激光在光学制版领域的竞争对手众多，未来公司能否取得成功，还需要看其技术实力、市场拓展能力以及产品竞争力等方面的表现。

重大事项>>> 3连板京华激光：控股子公司所研发的光刻机主要用于光学制版 非用于半导体领域 3连板京华激光发布股票交易风险提示公告，公司关注到近期光刻机概念板块受市场关注度较高。公司控股子公司美国菲涅尔制版科技公司主要从事光刻机的研发工作，所研发的光刻机主要用于光学制版，非用于半导体领域，与芯片光刻机在精准度、复杂度等方面存在较大的差异，如公司光刻机属于微米级，芯片光刻机属于纳米级，精度相差1000倍，并且不具备通过技术改进升级为芯片光刻机的可能性，故公司在光刻机领域的布局主要集中在光学制版用光