京华激光公告澄清，公司控股子公司美国菲涅尔制版科技公司研发的光刻机主要用于光学制版，而非用于半导体领域，与芯片光刻机在精度、复杂度等方面存在较大差异。公司光刻机属于微米级，而芯片光刻机属于纳米级，精度相差1000倍，并且不具备通过技术改进升级为芯片光刻机的可能性。

🎯 **光刻机业务澄清**：京华激光公告澄清，公司控股子公司美国菲涅尔制版科技公司研发的光刻机主要用于光学制版，而非用于半导体领域，与芯片光刻机在精度、复杂度等方面存在较大差异。 公司光刻机属于微米级，而芯片光刻机属于纳米级，精度相差1000倍，并且不具备通过技术改进升级为芯片光刻机的可能性。 因此，公司在光刻机领域的布局主要集中在光学制版用光刻机，与目前市场关注的芯片光刻机技术路线完全不同。

💡 **光学制版用光刻机**：京华激光的光刻机主要用于光学制版，而非芯片制造。光学制版是印刷制版的一种方式，主要用于印刷版材的制作，与芯片制造所需的纳米级精度要求相差甚远。 光学制版用光刻机主要用于印刷行业，例如印刷电路板、柔性显示、光学器件等。这些应用领域对光刻机精度的要求相对较低，与芯片制造所需的纳米级精度相差甚远。

🚀 **未来发展方向**：京华激光表示，公司将继续专注于光学制版用光刻机的研发和生产，并积极拓展相关业务领域。 在未来，公司将继续加大研发投入，提升产品性能和市场竞争力，为客户提供更优质的产品和服务。同时，公司也将积极探索新市场和新应用领域，进一步拓展业务范围。

🤔 **市场反应**：京华激光公告发布后，公司股价出现波动。部分投资者认为，公司澄清光刻机业务后，股价将回归理性。 然而，也有投资者认为，公司在光刻机领域的布局仍具有一定的潜力，未来发展值得期待。

📈 **投资建议**：目前，公司光刻机业务主要集中在光学制版领域，与芯片制造领域存在较大差异。投资者需谨慎评估公司未来发展前景，并根据自身风险承受能力做出投资决策。 公司未来发展将取决于其在光学制版领域的市场竞争力和技术创新能力。投资者需关注公司在该领域的研发投入、市场份额和产品竞争力等方面的进展。

36氪获悉，京华激光公告，公司关注到近期光刻机概念板块受市场关注度较高。公司控股子公司美国菲涅尔制版科技公司主要从事光刻机的研发工作，所研发的光刻机主要用于光学制版，非用于半导体领域，与芯片光刻机在精准度、复杂度等方面存在较大的差异，如公司光刻机属于微米级，芯片光刻机属于纳米级，精度相差1000倍，并且不具备通过技术改进升级为芯片光刻机的可能性，故公司在光刻机领域的布局主要集中在光学制版用光刻机。