京华激光发布风险提示，澄清其控股子公司美国菲涅尔制版科技公司研发的光刻机主要用于光学制版，而非半导体领域。公司光刻机属于微米级，与芯片光刻机属于纳米级，精度相差1000倍，不具备升级为芯片光刻机的可能性。

🎯 京华激光发布风险提示，说明其控股子公司美国菲涅尔制版科技公司研发的光刻机主要用于光学制版，而非半导体领域。 公司在公告中强调，其光刻机主要应用于光学制版领域，而非芯片制造领域。这两种光刻机在技术要求、精度和复杂度方面存在显著差异。公司光刻机属于微米级，而芯片光刻机则属于纳米级，精度相差千倍。 公司还明确表示，其光刻机不具备通过技术改进升级为芯片光刻机的可能性。这一表态旨在消除市场对于公司光刻机业务与芯片光刻机之间存在技术关联的误解。

💡 公司的光刻机业务主要集中在光学制版用光刻机上。 光学制版是指将设计好的图案转移到光刻版上的过程，是印刷、光刻等行业的关键环节。公司研发的光刻机主要用于光学制版，为印刷、光刻等行业提供关键设备。 公司在光学制版用光刻机领域拥有丰富的经验和技术积累，并已成功开发出多种型号的光刻机，满足不同客户的需求。

🚀 公司的风险提示旨在消除市场对于其光刻机业务与芯片光刻机之间存在技术关联的误解。 公司在公告中明确表示，其光刻机业务与芯片光刻机存在较大差异，并强调其光刻机不具备升级为芯片光刻机的可能性。这一表态旨在消除市场对于公司光刻机业务与芯片光刻机之间存在技术关联的误解，避免投资者对公司业务产生错误的理解和预期。 公司发布风险提示，体现了其对投资者负责的态度，同时也表明了其专注于光学制版用光刻机领域的决心。

e公司讯，京华激光(603607)7月22日晚间发布风险提示，公司关注到近期光刻机概念板块受市场关注度较高。公司控股子公司美国菲涅尔制版科技公司主要从事光刻机的研发工作，所研发的光刻机主要用于光学制版，非用于半导体领域，与芯片光刻机在精准度、复杂度等方面存在较大的差异，如公司光刻机属于微米级，芯片光刻机属于纳米级，精度相差1000倍，并且不具备通过技术改进升级为芯片光刻机的可能性，故公司在光刻机领域的布局主要集中在光学制版用光刻机。