面对美国MKS断供，国林科技凭借多年臭氧技术积累，迅速填补国内半导体清洗设备市场空缺，迎来国产替代的紧急需求和高消耗预期，主力产品为臭氧水机和薄膜沉积设备。

🔍 国产替代的紧迫性：美国MKS断供，国内半导体企业面临设备短缺，国林科技臭氧技术成为关键替代方案。

💡 技术积累深厚：国林科技依托几十年臭氧技术积累，成功进入半导体和光刻胶清洗设备领域，展现技术实力。

🔧 产品优势明显：臭氧水机和薄膜沉积设备是国林科技的主力产品，满足高浓度臭氧发生器市场需求。

🔄 高消耗预期：预计每3年需更换一次设备，为国林科技带来持续的市场需求和业务增长潜力。

🌟 市场前景广阔：国产替代需求强劲，国林科技有望在国内半导体清洗设备市场占据重要地位。

国林科技核心逻辑： 1） 紧急且确定的国产替代需求； 2） 国产替代后的高消耗预期（大概3年需要更换一次设备）； 事件背景： 半导体清洗设备的核心设备“高浓度臭氧发生器”，其市场主要由美国MKS及德国安索罗斯等国外厂商占据；据行业内消息，目前美国mks确定断供，已经发函给国内半导体企业停供设备了；国产替代的需求紧急且确定； 国林科技是以臭氧技术为核心的拓展产业上下游的企业；近年来，依托几十年的臭氧相关技术积累进入半导体和光刻胶清洗设备领域，产品主要是两大类，臭氧水机和薄膜沉积设备两种。 臭氧气体