“02专项计划”下，中国光刻机研发采用“Out House”模式，上海微电子负责整机设计与集成，另有五家企业分别负责光刻机不同核心零部件的研发，包括科益虹源（光源系统）、国望光学（物镜系统）、国科精密（曝光光学系统）、华卓精科（双工作台）和启尔机电（浸没系统）。这五家企业与中国顶尖高校联系紧密，代表着中国最顶尖的半导体研发实力。

🇨🇳 中国光刻机研发采用“1+5”模式，上海微电子负责整机设计与集成，另有五家企业分别负责光刻机不同核心零部件的研发，分别为： * 科益虹源：负责光源系统，其光源系统采用先进的深紫外光源技术，可以有效提高光刻机的分辨率和精度。 * 国望光学：负责物镜系统，其物镜系统采用高精度光学设计，可以有效提高光刻机的成像质量和分辨率。 * 国科精密：负责曝光光学系统，其曝光光学系统采用先进的投影技术，可以有效提高光刻机的曝光精度和效率。 * 华卓精科：负责双工作台，其双工作台采用高精度机械结构，可以有效提高光刻机的生产效率。 * 启尔机电：负责浸没系统，其浸没系统采用先进的液浸技术，可以有效提高光刻机的分辨率和精度。

🎓 这五家企业与中国顶尖高校联系紧密，代表着中国最顶尖的半导体研发实力。例如，科益虹源与中科院上海光学精密机械研究所合作，国望光学与清华大学合作，国科精密与北京大学合作，华卓精科与上海交通大学合作，启尔机电与浙江大学合作。

💡 中国光刻机研发采用“1+5”模式，体现了中国科技界集中力量办大事的精神，也展现了中国半导体产业的强大实力。未来，中国光刻机研发将继续取得突破，为中国半导体产业的发展提供有力支撑。

根据“02专项计划”，我国光刻机研发工作亦采用类似“Out House”的研发模式。 上海微电子负责整机的设计与集成。 另有五家企业各自负责对光刻机不同核心零部件的研发， 科益虹源负责光源系统 国望光学负责物镜系统 国科精密负责曝光光学系统 华卓精科负责双工作台 启尔机电负责浸没系统 值得一提的是，这五家承担核心零部件研发企业，均与中国顶尖高校联系紧密，代表着中国最顶尖的半导体研发实力。下面对这“1+5”共6家公司以及背后的上市公司做一梳理。 一、上海微电子 IC前道制造光刻机能实现90nm芯片