近日，全国首台国产商业化电子束光刻机“羲之”在杭州正式亮相。该设备由浙江大学余杭量子研究院自主研发，是新一代100kV电子束光刻机，专攻量子芯片和新型半导体研发。其核心优势在于能够通过高能电子束在硅基上“手写”电路，精度高达0.6纳米、线宽仅8纳米，与国际主流设备相当，且无需掩模版，可进行多次设计修改。与传统光刻机相比，“羲之”在原型设计、快速迭代和中小批量试制方面优势显著，能大幅提升芯片研发初期的调试效率。该设备的成功研发打破了国际出口管制带来的采购限制，目前已与国内多家企业及科研机构展开合作洽谈。

🌟 **国产电子束光刻机“羲之”的突破性进展**：由浙江大学余杭量子研究院自主研发的“羲之”型号电子束光刻机，已在杭州亮相并进入应用测试阶段。这是全国首台国产商业化电子束光刻机，标志着我国在高端芯片制造设备领域取得重要突破。

💡 **“羲之”的核心技术优势**：“羲之”是一款100kV电子束光刻机，能够通过高能电子束在硅基上进行“手写”电路，实现0.6纳米的精度和仅8纳米的线宽，达到国际先进水平。其无需掩模版即可进行多次设计修改的特性，为芯片研发提供了极大的灵活性。

🚀 **对芯片研发效率的显著提升**：相比传统光刻机，“羲之”在原型设计、快速迭代和中小批量试制方面具有明显优势。高精度和便捷的“书写”方式，能够极大提高芯片研发初期反复调试的效率，缩短研发周期。

🔓 **打破国际技术封锁，促进国内产业发展**：“羲之”的成功研发和落地，有效打破了此前先进电子束光刻机类设备受到的国际出口管制，解决了国内顶尖科研机构和企业长期无法采购高端设备的难题，为我国半导体产业的自主发展注入了强大动力。

🤝 **市场前景与合作潜力**：目前，“羲之”已与国内企业及多家科研机构展开接洽，预示着其在推动国内量子芯片、新型半导体等前沿技术研发和产业化方面将发挥重要作用，具有广阔的市场应用前景。

快科技8月14日消息，据报道，近日全国首台国产商业化电子束光刻机在杭州正式亮相，这台设备由浙江大学余杭量子研究院自主研发，型号为“羲之”，已完成研发并进入应用测试阶段。

“羲之”是一款新一代100kV电子束光刻机，外观酷似大型钢柜，专攻量子芯片、新型半导体研发的核心环节。

可通过高能电子束在硅基上“手写”电路，精度可达0.6纳米、线宽仅8纳米，精度比肩国际主流设备，并且无需掩模版，可多次修改设计。

据介绍，与传统光刻机相比，电子束光刻机在原型设计、快速迭代和小批量试制方面具有独特优势。

团队负责人表示：“芯片研发初期会设计很多版型、图案，常常需要一条线一条线进行修改，电子束光刻机精度高、‘书写’便捷，极大提升了芯片研发初期反复调试的效率。”

此前先进电子束光刻机类设备受国际出口管制，国内顶尖科研机构和企业长期无法采购，而“羲之”的落地彻底打破了这一困局，目前已与国内企业及多家科研机构展开接洽。