虎嗅 5小时前
人类会被困在1nm吗?深度解析光刻机与芯片制程的未来
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文章从技术角度分析光刻机突破极限的三大核心,探讨摩尔定律、芯片命名、GPU与AI在光刻机进化中的作用,以及国际形势对芯片行业的影响。

近年来“摩尔定律已死”的讨论度越来越高,经常有人提出疑问:芯片制造已经触碰到了物理边界了吗?制造芯片所用的光刻机,可以说是最赚钱的机器,但它却非常脆弱:核心部件全球仅两人能修,甚至几个“屁”就能让它减产数小时。这期视频我们将从技术角度,拆解光刻机突破极限的三大核心:光源、数值孔径与工艺因子,为何英特尔豪赌3.5亿欧元抢先购入High-NA EUV,而台积电却一度犹豫?有意思的是,你手机里号称“3nm”的芯片,其实际尺寸却没低于20nm,芯片界的命名谎言又是因何而起?这场人类与物理极限的较量背后,GPU与AI会如何成为光刻机进化的“新燃料”?为何生产精密机器的ASML,会多次因低级错误导致股价下跌?而越来越不稳定的国际形势,又将如何影响芯片行业的发展?

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