佳能宇都宫光刻机工厂扩建后将于9月投入运营，这是21年来的首次重大升级，旨在满足AI产业驱动的半导体需求激增。新工厂斥资500亿日元，占地超6.7万平方米，核心亮点在于引入纳米压印光刻系统，该技术通过直接压印电路图案简化制造流程，并在成本和能耗上具有优势，为佳能挑战ASML的市场地位提供了关键技术支撑。预计2027年新工厂将实现满产，佳能光刻机年产量有望突破300台，较2024年显著提升。尽管在EUV领域与ASML存在差距，佳能正试图通过差异化的纳米压印技术，在AI算力基础设施的竞争中开辟新路径。

💡 佳能宇都宫光刻机工厂扩建升级：时隔21年，佳能斥资500亿日元扩建其光刻机工厂，新厂区占地超6.7万平方米，将于9月正式投入运营，旨在抓住AI产业带来的半导体需求激增机遇。

🚀 引入纳米压印光刻系统：新工厂的核心技术突破在于引入革命性的纳米压印光刻系统，通过将电路图案直接压印至晶圆，简化制造流程，并在生产成本和能耗控制方面相较传统光刻工艺具有显著优势，成为挑战ASML的关键。

📈 产能与市场目标：新工厂预计2027年实现满产，届时佳能光刻机年产量将突破300台，较2024年的233台增长近30%。虽然在EUV技术上与ASML存在代际差距，佳能期望通过纳米压印的差异化策略，在AI算力市场开辟新战场。

🌐 市场背景与竞争格局：全球半导体市场规模持续增长，AI产业的快速发展进一步推高了对高性能芯片的需求。ASML凭借EUV技术占据高端市场主导地位，而佳能则试图通过纳米压印技术开辟差异化竞争赛道，争夺AI算力基础设施的市场份额。

佳能（日本）宇都宫市的全新扩建后的光刻机工厂将于9月正式投入运营。这是自2004年该光刻机工厂落成后，时隔21年的首次扩建。旨在增产光刻设备，借助人工智能（AI）产业的迅猛发展，抢占由全球龙头企业阿斯麦主导的光刻设备市场。

面对全球AI产业催生的半导体需求激增，佳能斥资500亿日元（约合23.94亿人民币）打造的超6.7万平方米新厂区。

新工厂的核心突破在于双轨技术布局：在延续传统UV光刻设备生产的同时，引入革命性的纳米压印光刻系统。通过将电路图案直接压印至晶圆，大幅简化制造流程。

相较于传统光刻工艺，其在生产成本与能耗控制方面具备显著优势，为佳能挑战阿斯麦（ASML）的统治地位提供关键技术支点。

产能规划显示，新工厂预计2027年实现满产，届时联合宇都宫、阿见两大现有基地，佳能光刻机年产量将突破300台大关——较2024年233台的出货量跃升近30%。

尽管目前佳能以30%的全球市场份额位居行业第二，但在决定高端芯片性能的极紫外光（EUV）领域，仍与占据绝对主导的阿斯麦存在代际差距。

据世界半导体贸易统计组织预测，2026年全球半导体市场规模将达7607亿美元，年增长率8.5%，更有机构预判2030年市场将突破万亿美元大关。当阿斯麦凭借EUV技术收割高端芯片制造红利之际，佳能正试图通过纳米压印的差异化路径，在AI算力基础设施的黄金赛道上开辟新战场。