(国海证券) 杜先康 本篇报告解决了以下核心问题：1、光刻机核心部件的主要类型、基本原理、市场空间，EUV光刻机核心部件的差异性；2、ASML的产业协作模式、核心部件主要供应商；3、光刻机国产化历程、现状，核心部件及加工设备标的推荐。 投资逻辑 光刻机是芯片制程核心设备。光刻工艺直接决定芯片制造的细微化水平，光刻机的关键指标是分辨率、焦深、套刻精度和产率，其中，分辨率提升方式包括缩短曝光波长、增大数值孔径、降低工艺因子以及多重曝光，增加焦深能够促使光刻机容纳各种工艺误差，套刻精度影响光刻工艺良率