韭研公社 07月25日 11:28
国产光刻机在憋着大招
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本文探讨了中国光刻胶产业近年来在技术上取得的突破,特别是南大光电在193nm浸没式ArF光刻胶方面的进展,及其对中国半导体产业自主发展的意义。

张江高科和海立走势不一般! 国产光刻胶憋着大招 在半导体产业的核心舞台上,光刻胶始终占据着举足轻重的地位,堪称“芯片制造的关键密码”。一直以来,高端光刻胶市场被美日企业高度垄断,成为横亘在中国半导体产业自主发展道路上的一座巍峨高山。然而,近年来,中国企业与科研团队默默耕耘、潜心钻研,在光刻胶领域憋着大招,逐步实现技术突破,不断向高端光刻胶市场发起冲击。 技术突破:攀登光刻胶的“珠穆朗玛峰” 193nm浸没式ArF光刻胶:南大光电的关键一跃 2025年,国内半导体材料领域传来重磅消息,南大光电在1

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