【国金电子】光刻机行业重要更新:i线前道光刻机已搬入国内重要fab厂 根据行业调研信息，i线光刻机按分辨率主要分为700nm、500nm及350nm，目前国产量产出货大部分为i线700nm光刻机，近期芯上微装前道500nm i线光刻机已发货至核心头部fab厂客户端进行量产验证，供应链i线物镜系统配套价值量从300w提升至500-600w。光刻环节国产化持续推进，之前讲的产业逻辑正不断演绎。 光刻机是晶圆制造最核心设备之一，技术难度最高且当前国产化率最低。当前最高端的产品为 ASML 研发的 EU