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关于芯片设计的一些基本知识
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本文深入探讨了芯片设计领域,从早期的手工绘制到现代的EDA技术,详细介绍了芯片设计的不同层级、设计理念以及所需的工具。文章重点分析了自顶向下设计方法,EDA工具的重要性,以及IP核在芯片设计中的应用。文章还提到了中国在EDA和IP核领域的挑战与机遇,并对未来芯片产业的发展趋势进行了展望,强调了数字化转型和AI浪潮带来的巨大商业机会。

💡 早期芯片设计采用自底向上(Bottom-Up)的理念,工程师直接在图纸上手绘电路的物理版图,适用于晶体管数量较少的集成电路。随着集成电路的复杂化,这种方式逐渐被淘汰。

🔄 自顶向下(Top-Down)的设计理念成为主流,先进行系统级设计,再逐步细化到RTL级、门级层等,这种方式提高了效率、缩短了设计周期并降低了成本,且伴随着逐级的仿真验证,成功率也更高。

💻 EDA(电子设计自动化)是芯片设计的重要工具,它并非单一软件,而是一类涵盖设计、验证和仿真的软件统称,贯穿芯片的整个研发和生产周期,显著提高设计效率和精度。目前,EDA市场主要被Synopsys、Cadence和Siemens EDA等公司占据,国内企业仍面临挑战。

🧱 IP核(知识产权核)是预先定义、经过验证的可重复使用的模块化功能单元,可以大幅减少芯片设计的工作量。IP核市场同样被欧美企业占据,国产高端IP核依赖进口的现状亟待改变。

之前给大家介绍了芯片的制造和封装。今天这篇,我们来看看芯片的设计。

芯片的设计理念

众所周知,芯片拥有极为复杂的结构。

以英伟达的B200芯片为例,在巴掌大的面积上,塞入了2080亿个晶体管。里面的布局,堪称一个异次元空间级的迷宫。

英伟达B200芯片

如此复杂的架构,无论是制造还是设计,都具有极大的难度。

早期集成电路刚刚诞生的时候,晶体管的数量并不多,结构也不复杂。

所以,基本上都是设计工程师直接在图纸上绘制电路的物理版图,然后把版图送到制造工厂,工厂进行生产。

早期的手绘门电路图纸(来自仙童半导体)

他们手工绘制的版图是非常精细的,直接具体到了晶体管的物理层级,包括布局布线等。

早期手工制作光 掩模(1970年)

随着集成电路变得越来越复杂,他们仍然采用这种方式,先画底层细节,然后进行“拼接”,最终组成一个完整的集成电路。

这种设计理念,叫做自底向上(Bottom-Up)设计。

英特尔4004芯片的设计图(1971年)

这里就要说明一下, 一颗芯片从设计的角度来看,是分为不同层级的。

从上到下,依次是:系统层、RTL层、门级层、晶体管层、布局布线层、掩膜层。

系统层,是最高层,是站在整个宏观的角度对芯片进行整体设计。

RTL层,是寄存器传输层( Register Transfer Level )。门级层的“门”,就是门电路。门电路是由晶体管搭建的。

掩模,在之前晶圆制造里介绍过,就是光掩模版,是芯片设计的最终产物,是最底层的、最能够从细节对芯片进行描述的东东。掩模层,是最底层。

自底向上(Bottom-Up)设计适用于早期的集成电路和PCB传统电路。

到了上世纪70-80年代,集成电路发展为大规模和超大规模集成电路,晶体管数量超过1万。

此时,再采用自底向上(Bottom-Up)方式就不合适了。于是,自顶向下(Top-Down)的设计理念 开始崛起。

简单来说,就是不再从细节开始入手,而是“先宏观,再微观”——先做系统级设计,然后再做RTL级设计(逻辑功能设计)。等上层设计完成后,再进行下层设计( 门级层、晶体管层、布局布线层和掩膜层),完善每一个细节 。

自顶向下( Top-Down)设计理念一直到现在都是主流。对于日益复杂的芯片架构来说,这种方式具有更高的效率、更短的设计周期,以及更低的设计成本。

逐级的设计,伴随着逐级的 仿真 验证,所以,这种设计方式的成功率也很高。

芯片的设计工具

工欲善其事,必先利其器。想要高效进行芯片的设计,当然不能一直依赖于手工作业。

上世纪70年代,随着计算机技术的不断成熟,芯片设计逐渐从手工设计走向了计算机辅助设计阶段,出现了ICCAD(ICComputer Aided Drafting) 。

早期的CAD(1967年)

到了80年代,又出现了CAE ( Computer Aided Engineering,计算机辅助工程)。 CAD专注于产品设计建模与绘图,而CAE侧重于工程仿真与性能优化‌。

再后来,大名鼎鼎的EDA( Electronic Design Automation,电子设计自动化 )诞生了。

EDA技术的演进阶段

大家需要注意, EDA并不是一个具体的软件,而是一类软件的统称。它不仅仅用于芯片的设计、验证和仿真,也用于芯片的制造流程。

换言之,EDA贯穿于芯片的整个研发和生产周期, 能够帮助工程师完成大量的细分任务,可以显著提高设计效率、精度以及成功率。

很多人都知道光刻机,也知道光刻机是我们被“卡脖子”的一个关键点。事实上,在EDA方面,我们也是被“卡脖子”的,问题同样很严重。

从全球范围内来看,处于EDA行业第一梯队的,就是三家公司——Synopsys(新思科技)、Cadence(铿腾电子)、Siemens EDA(原Mentor)。

他们都于上世纪80年代创立于美国,目前拥有完整的、全流程的EDA产品体系,市场占有率超过70%,竞争优势非常明显。

国内虽然也有华大九天等一些EDA企业,但市场份额较小,和第一梯队的差距较大。

前几天传出新闻,漂亮国那边又在EDA上搞事,对我们进行封禁。这也是一件麻烦事。

芯片设计的投入成本

在之前的文章中,小枣君介绍过,芯片的研发和制造有非常明确的分工。

除了极少数公司(IDM, 整合元件制造商) 设计、制造、封测全都做之外,大部分公司都只做其中一块(Fabless、Foundry、OSAT),或者是某个更加细分的领域。

国内的很多知名芯片公司,例如华为海思、中兴微电子、寒武纪等,都是Fabless( 无晶圆芯片设计企业)。

小米前两天发布了自己的手机SoC芯片——玄戒O1。他们也是Fabless,只负责设计,芯片制造还是交给了台积电(3nm工艺)。

芯片设计的难度,由芯片的种类、功能和性能所决定。

数字芯片处理数字信号,通常都可以做很大规模,尤其是现在很多CPU、GPU、NPU计算芯片,还有手机SoC芯片,结构都极为复杂,晶体管数量极多,设计难度极大,成本也极为高昂。

设计这种高端芯片,往往需要几百甚至几千人的专业技术团队,耗费一年甚至几年的时间,投入上亿甚至上百亿美元的资金。芯片工艺制程越先进,成本就越高。

芯片的设计成本估算(单位:美元),仅供参考

成本中,包括了专业人才的薪资(芯片设计人才的薪资很高)、EDA工具的授权费、IP核(待会会提到)的采购费、设备购买费以及运营费用等。

模拟/射频芯片,处理模拟信号,往往是针对一些具体的功能,规模远不如刚才说的高端数字芯片。另外还有一些数模混合信号芯片,例如ADC(模数转换)、DAC(数模转换),也是针对一些具体应用。这些芯片,大部分相对数字芯片来说简单一些。

对于较为简单的芯片, 一些中小型团队,借助目前比较齐全的芯片设计软件工具平台 (例如EDA) 和硬件设备,也能够进行自主设计。当然,哪怕是简单的芯片,设计周期大概是1-1.5年,耗费资金在百万至千万级。

特别值得一提的是,芯片设计具有极高的风险性。

如果流片(芯片设计最后要进行流片,相当于做一个测试版)失败,损失会非常大(28nm单次流片需要1000万元,7nm需要超过1亿美元)。

直接经济损失还只是一方面。流片失败还会拉长芯片的研发周期,导致错失市场机遇。

严重情况下,流片失败可以直接导致一家公司破产倒闭。

IP核

芯片设计,也是有一些“捷径”的。例如采用IP核。

IP核,即知识产权核,代表着一种预先定义、经过验证且可重复使用的模块化功能单元。它是构建大规模集成电路的基础元素。

简单来说,你在设计一个复杂芯片的时候,不必每个部分都从零开始,一些成熟的或通用的功能单元,你就可以直接购买IP核,大幅减少芯片设计的工作量。

手机SoC芯片的设计理念,其实就来自于IP核的复用。

手机SoC芯片

根据特性,IP核可以分为硬核、固核和软核。具体区别可以参考下面的表格:

目前,芯片IP核的主要市场份额也被欧美企业所占据,其中Arm、Synopsys和Cadence位列市场前三。

大家发现了,Synopsys和Cadence不就是刚才EDA三强的第一和第二吗?

没错,搭配捆绑销售,软件授权和IP核授权一起卖,效果更好,利润更高。

在芯片设计的产业链中,上游的EDA工具和IP核授权环节毛利率高达90%以上。然而,这些利润基本上都被刚才说的那几家公司所占据。

目前,EDA工具的国产化率尚不足5%,高端IP核仍严重依赖进口,形势真的是不容乐观。

根据有关机构的数据显示,2020至2024年间,全球芯片设计市场的复合增长率是9.8%,2024年市场规模突破4800亿美元。中国市场的增长更为惊人,占比从19%迅速提升至28%。

随着整个社会数字化转型的不断推进,还有AI浪潮的蓬勃发展,相信包括芯片设计在内的整个芯片产业还会继续高歌猛进。这其中,蕴藏着巨大的商业机会和挑战。

好啦,以上就是今天文章的全部内容。

本文来自微信公众号“鲜枣课堂”(ID:xzclasscom),作者:小枣君,36氪经授权发布。

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