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专家解读:光刻机有后门吗?ASML能否跨国远程关闭?
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ASML的CEO傅恪礼在采访中表示,美国的打压措施反而会促使中国在半导体领域取得更大的进步。尽管中国在光刻机技术上仍需追赶,但他们正在积极研发国产设备。文章还探讨了光刻机是否存在后门以及远程控制的可能性。专家分析认为,中国有望在2028年实现28nm工艺的安全化,并在2030年实现14nm工艺的安全化,从而保障关键基础设施和AI芯片的国产化供应。

💡ASML CEO傅恪礼认为,美国的打压措施不会奏效,反而会促使中国更努力地发展半导体技术,中国正在研发国产光刻设备。

🔬中国科学院已成功研发出突破性的固态DUV激光,可用于3nm制程的半导体工艺,为国产光刻机的研发奠定了基础。

🔒专家分析指出,中国有望在2028年实现28nm工艺的安全化,并在2030年实现14nm工艺的安全化,确保关键领域芯片的国产化供应,并为AI芯片生产提供安全保障。

📡文章提到,ASML曾希望将光刻机接入外网,以便远程运维,引发了对光刻机可能存在后门和远程控制的担忧。

近日,荷兰光刻机巨头ASMLCEO傅恪礼(Christophe Fouquet)接受媒体采访时明确表示,美国出台的打压措施只会适得其反,让中国“更努力取得成功”。ASML是全球唯一一家高端光刻机的制造商。傅恪礼称,中国已经开始研发一些国产光刻设备,尽管中国在赶超ASML的技术方面还有很长的路要走,但“你试图阻止的人会更加努力地取得成功。”

傅恪礼补充道:“无论你设置多少障碍都没用。”

据此前报道,中国科学院成功研发除了突破性的固态DUV(深紫外)激光,可发射193nm的相干光,与目前主流的DUV曝光波长一致,能将半导体工艺推进至3nm。

在国产光刻机真正完成替代之前,我们依然需要使用ASML的DUV光刻机。

那么就有一个很多人关心的问题,光刻机有后门吗?外国公司是否能够远程控制我国的光刻机?

据国内媒体报道,复旦大学网络空间国际治理研究基地特邀研究员、B站知名半导体up主芯声对此表示:

“根据我掌握的消息和个人分析,我们应该能在2028年完成28nm工艺的安全化。所谓安全化,并非将所有设备和工序一律国产化,而是确保28nm工艺所需要素可持续供应,并部分以国产材料替代。到2030年,我们有望同样实现14nm工艺的安全化。

这意味着,到2028年,我们可在基站等关键基础设施领域实现芯片全面国产化。到2030年,若成功实现14nm制程生产安全化,就能彻底跨过AI芯片的门槛,为我们的AI芯片生产提供一个基础的安全保障,尽管可能到时候这条产线上生产的AI芯片不会太先进。

“我之前曾参与过与ASML的谈判,对方曾明确希望将我们的光刻机接入外网,理由是便于他们提供更优质的服务——只要将机器连接到互联网,ASML预装的远程运维系统即可实时传回所有数据。一旦出现故障,便可随时远程处理,无需人工收集后再上传。”

所以在这个背景下,你觉得它是否会留下后门、能否被远程关闭?毕竟ASML方面自己都说了,只要联网,就能处理一切问题

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