苹果公司获批一项新专利，该专利涉及下一代Face ID技术，从衍射光学元件（DOE）转向更先进的“超表面光学元件”（MOE）。新方案通过单一扁平元件集成光束分割与准直功能，从而缩小投影模组体积，降低生产成本，并简化组装流程。MOE技术还能调整光轴倾斜角度，使其与摄像头视野更好地重叠，提升3D映射的精准度。设备可通过控制器灵活切换点状照明和泛光照明，以适应不同场景需求。

💡 苹果现有Face ID技术依赖衍射光学元件（DOE），通过生成点状照明图案进行目标区域的3D映射。

✨ 新专利的核心是采用超表面光学元件（MOE），MOE在单一扁平元件中集成了光束分割与准直功能。

📐 MOE技术能够缩小投影模组体积，降低生产成本，并简化组装流程，减少制造误差的影响。

🎯 MOE设计可以调整投影模组的光轴倾斜角度，使其与摄像头的视野（FOV）更好地重叠，从而提升3D映射的精准度。

💡 设备可通过控制器交替激活点状照明和泛光照明，以灵活适应不同场景的需求。

IT之家 5 月 29 日消息，科技媒体 patentlyapple 昨日（5 月 28 日）发布博文，报道称苹果公司获批一项新专利，涉及下一代 Face ID 技术，从衍射光学元件（DOE）转向更先进的“超表面光学元件”（MOE）。

IT之家援引博文介绍，苹果公司现有 Face ID 依赖衍射光学元件（DOE），生成点状照明图案，用于目标区域的 3D 映射。

传统结构光投影模组（Structured light projectors）通常需要多个光学元件，包括 DOE 和准直透镜，来分割光束并投射点状图案。尽管这类投影模组已足够小巧，可嵌入智能手机，但仍有进一步缩小的需求。

而专利中提出了超表面光学元件（MOE）设计方案，在单一扁平元件中，集成光束分割与准直功能，不仅能缩小投影模组体积，降低了生产成本，还简化了组装流程，减少了制造误差的影响。

新专利还揭示，MOE 技术能同时调整投影模组的光轴倾斜角度，使其与摄像头的视野（FOV）更好地重叠。这种设计确保点状图案覆盖摄像头视野，提升 3D 映射的精准度。此外，设备可通过控制器交替激活点状照明和泛光照明，灵活适应不同场景需求。