英国南安普敦大学开设全球第二家电子束光刻工厂，为欧洲首个尖端半导体工厂，也是日本境外的首座同类设施。该工厂采用电子束光刻技术，以高能电子对光刻胶进行曝光，绘制半导体电路图案，具备优秀的分辨率，可不经过掩膜直写。尽管电子束光刻技术效率较低、控制复杂，但在掩膜制作等辅助工艺中具有重要作用。英国科技部国务大臣表示，新设施将极大地提升英国在半导体领域的能力，通过对基础设施和人才的投资，为研究人员和创新者提供在英国开发下一代芯片所需的支持。

✨电子束光刻技术：不同于主流的激光图案化技术，该技术使用高能电子束对光刻胶进行曝光，从而在半导体材料上绘制电路图案。

🔬高分辨率与无掩膜直写：电子束光刻技术的一大优势在于其卓越的分辨率，这使得它能够直接在材料上进行图案绘制，无需使用掩膜。

🚧应用局限与辅助工艺价值：尽管电子束光刻技术具有高分辨率的优点，但其效率较低且控制复杂，因此在商业生产中主要应用于掩膜制作等辅助工艺，而非核心工艺。

IT之家 5 月 6 日消息，英国南安普敦大学当地时间 4 月 30 日宣布开设全球第二家电子束光刻工厂。这是日本境外的首座同类设施，也是欧洲首个尖端半导体工厂。

根据IT之家的了解，不同于现有的主流商用技术路线 —— 激光图案化，电子束光刻以高能电子对光刻胶进行曝光，绘制出半导体电路图案。

电子束光刻技术具备优秀的分辨率，可不经过掩膜直写，但也存在着效率较低、控制复杂的等弱点，在实际商业生产中通常被用在掩膜制作这一辅助工艺中，不以核心工艺技术出现。

出席活动的英国科技部国务大臣 Patrick Vallance 表示：

英国拥有一些世界上最令人兴奋的半导体研究成果，南安普敦的新电子束设施将极大地提升我们国家的能力。

通过对基础设施和人才两方面的投资，我们为研究人员和创新者提供在英国开发下一代芯片所需的支持。