前Intel CEO帕特·基辛格已加入初创公司xLight，担任执行董事长。xLight专注于研发基于自由电子激光(FEL)技术的EUV光源系统，旨在降低半导体行业的成本。与ASML的激光等离子体EUV光源(LPP)相比，FEL技术有望提供更高的功率和更低的运营成本，从而降低晶圆光刻成本。xLight的FEL EUV光源系统预计2028年可与ASML光刻机兼容，为半导体行业带来新的技术可能性。

💡帕特·基辛格加盟xLight，担任执行董事长。xLight是一家半导体行业初创公司，专注于开发基于自由电子激光(FEL)技术的EUV光源系统。

⚡️FEL技术优势：FEL光源可产生超过10kW的EUV光源功率，而不会产生锡滴碎片。xLight研发的基于ERL的FEL EUV光源系统，可提供1000W的功率，从而将单块晶圆光刻成本降低约50％。

💰成本效益分析：10kW功率的FEL EUV光源建设成本约为4亿美元，运营成本4000万美元。相比之下，250W功率的LPP EUV光源建设成本约为2000万美元，运营成本1500万美元。FEL路线综合成本约为LPP路线的1/3。

🤝兼容性与应用：xLight的FEL EUV光源系统兼容现有的ASML EUV光刻机，可以直接整合。预计2028年可接入ASML光刻机，并开始生产晶圆。

🧑‍🔬团队背景：xLight团队在光刻和加速器领域拥有丰富经验，包括来自斯坦福直线加速器等的资深研究人士，首席科学家Gennady Stupakov博士曾获得IEEE奖项。

Intel前任CEO帕特·基辛格已经找到了新工作！本人亲自宣布，已经加盟xLight担任执行董事长。xLight是一家半导体行业创业公司，主要业务室面向EUV极紫外光刻机，开发基于直线电子加速器的自由电子激光(FEL)技术光源系统，可显著降低成本。

目前的ASML EUV光刻机使用的是激光等离子体EUV光源(LPP)，依赖超高功率的高能激光脉冲，因此整个系统极为庞大、复杂，而产生的EUV光源功率有限，这也是其成本、价格高昂的核心原因，单价超过1.5亿美元。

因此，美国、中国、日本等都在积极研究替代方案，FEL自由电子激光器就是广为看好的EUV光源，包括振荡器、自放大自发辐射两大技术路线。

它可以产生超过10kW功率的EVU光源功率，可同时满足10台光刻机的需要，而且不会产生锡滴碎片而污染环境。

其实，ASML早在十年前就考虑过FEL EUV光源路线，但最终认为风险偏高，而走向了LPP EUV光源。

有关研究显示，10kW功率的FEL EUV光源的建设成本约为4亿美元，每年运营成本4000万美元。

相比之下，250W功率的LPP EUV光源的建设成本约为2000万美元，每年运营成本1500万美元。

算下来，EFL路线的建设成本只有LPP路线的1/2，运营成本更是1/15，综合成本约为1/3。

基辛格加盟的xLight公司，正在研发基于ERL(能量回收直线加速器)的FEL EUV光源系统，可提供1000W的功率，四倍于ASML，从而将单块晶圆光刻成本降低约50％，而且单个光源系统就能支持20台光刻机，寿命也长达30年。

xLight FEL EUV光源系统的另一个好处，就是兼容现有的ASML EUV光刻机，可以直接整合，预计2028年可接入ASML光刻机，并开始生产晶圆。

xLight公司规模不大，但是团队在光刻和加速器领域拥有丰富经验，包括来自斯坦福直线加速器等的资深研究人士，首席科学家Gennady Stupakov博士曾在去年拿到IEEE核能和等离子体科学学会粒子加速器科学技术奖。