快科技资讯 04月14日 15:06
Intel前CEO基辛格找到新工作:开发FEL EUV极紫外光刻 成本大降2/3
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前Intel CEO帕特·基辛格加入初创公司xLight,担任执行董事长,该公司致力于研发基于自由电子激光(FEL)技术的EUV光源系统,以降低半导体制造的成本。xLight的目标是开发出替代ASML现有激光等离子体EUV光源的方案,通过FEL技术提供更高功率、更低成本的光源,并兼容现有的ASML EUV光刻机。预计该技术将在2028年接入ASML光刻机,推动晶圆生产的革新。

💡 xLight公司的核心业务是开发基于直线电子加速器的自由电子激光(FEL)技术光源系统,该系统旨在替代ASML EUV光刻机使用的激光等离子体EUV光源(LPP)。

💰 FEL EUV光源在成本上具有显著优势。研究显示,10kW功率的FEL EUV光源建设成本约为4亿美元,运营成本4000万美元,而250W功率的LPP EUV光源建设成本约为2000万美元,运营成本1500万美元。FEL路线的综合成本约为LPP路线的1/3。

⚙️ 基辛格加盟的xLight公司,正在研发基于ERL(能量回收直线加速器)的FEL EUV光源系统,可提供1000W的功率,四倍于ASML,从而将单块晶圆光刻成本降低约50%,并且单个光源系统就能支持20台光刻机,寿命也长达30年。

📅 xLight FEL EUV光源系统预计2028年可接入ASML光刻机,并开始生产晶圆,且该系统与现有的ASML EUV光刻机兼容,可以直接整合。

快科技4月14日消息,Intel前任CEO帕特·基辛格已经找到了新工作!本人亲自宣布,已经加盟xLight担任执行董事长。

xLight是一家半导体行业创业公司,主要业务室面向EUV极紫外光刻机,开发基于直线电子加速器的自由电子激光(FEL)技术光源系统,可显著降低成本。

目前的ASML EUV光刻机使用的是激光等离子体EUV光源(LPP),依赖超高功率的高能激光脉冲,因此整个系统极为庞大、复杂,而产生的EUV光源功率有限,这也是其成本、价格高昂的核心原因,单价超过1.5亿美元。

因此,美国、中国、日本等都在积极研究替代方案,FEL自由电子激光器就是广为看好的EUV光源,包括振荡器、自放大自发辐射两大技术路线。

它可以产生超过10kW功率的EVU光源功率,可同时满足10台光刻机的需要,而且不会产生锡滴碎片而污染环境。

其实,ASML早在十年前就考虑过FEL EUV光源路线,但最终认为风险偏高,而走向了LPP EUV光源。

有关研究显示,10kW功率的FEL EUV光源的建设成本约为4亿美元,每年运营成本4000万美元。

相比之下,250W功率的LPP EUV光源的建设成本约为2000万美元,每年运营成本1500万美元。

算下来,EFL路线的建设成本只有LPP路线的1/2,运营成本更是1/15,综合成本约为1/3。

基辛格加盟的xLight公司,正在研发基于ERL(能量回收直线加速器)的FEL EUV光源系统,可提供1000W的功率,四倍于ASML,从而将单块晶圆光刻成本降低约50%,而且单个光源系统就能支持20台光刻机,寿命也长达30年。

xLight FEL EUV光源系统的另一个好处,就是兼容现有的ASML EUV光刻机,可以直接整合,预计2028年可接入ASML光刻机,并开始生产晶圆。

xLight公司规模不大,但是团队在光刻和加速器领域拥有丰富经验,包括来自斯坦福直线加速器等的资深研究人士,首席科学家Gennady Stupakov博士曾在去年拿到IEEE核能和等离子体科学学会粒子加速器科学技术奖。

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