快科技资讯 03月31日 15:06
一口气发布31款设备 新凯来火爆出圈!半导体制造国产趋势明确
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在2025中国国际半导体设备和材料展上,深圳新凯来公司发布了覆盖芯片制造全流程的31款设备,引发市场关注。这些设备包括刻蚀、薄膜沉积、量检测等核心环节,被视为国产芯片设备的重要突破。平安证券分析认为,半导体制造的国产化趋势明确,AI终端的持续投入也将推动新一轮换机需求。新凯来此次公开产品线,全部以中国名山命名,彰显了其国产自主的决心与信心。

⛰️ 新凯来公司在展会上公布了6大类31款设备,涵盖芯片制造的整个流程,包括刻蚀、薄膜沉积和量检测等核心环节,被市场评价为国产芯片设备领域的重大突破。

🏔️ 这些设备以中国名山命名,例如外延沉积EPI设备命名为峨眉山系列,原子层沉积ALD设备命名为阿里山系列,物理气相沉积PVD设备命名为普陀山系列,刻蚀ETCH设备命名为武夷山系列等,体现了国产自主的特色。

🏘️ 平安证券指出,半导体制造的国产化趋势明确,自主可控是主旋律,这将利好半导体制造和设备行业。同时,各大厂商在AI终端方面的持续投入,推动了具备AI性能的芯片不断推陈出新,有望刺激新一轮换机需求。

快科技3月31日消息,在2025中国国际半导体设备和材料展上,来自深圳的半导体设备企业新凯来成为最引人关注的“黑马”。

在展会上,新凯来一口气公布了6大类31款设备,覆盖芯片制造全流程,包括刻蚀、薄膜沉积、量检测等核心环节,被市场称为国产芯片设备的“重大突破”。

平安证券指出,半导体制造国产趋势明确,自主可控主旋律延续,利好半导体制造和设备;此外,各大厂在AI终端方面持续投入,具备AI性能的芯片不断推陈出新,有望驱动新一轮换机需求。

据了解,这是新凯来成立近四年来首次对外公开产品线,而且产品线全部以中国名山命名:

包括外延沉积EPI设备(峨眉山系列)、原子层沉积ALD设备(阿里山系列)、物理气相沉积PVD设备(普陀山系列)、刻蚀ETCH设备(武夷山系列)、薄膜沉积CVD设备(长白山系列)和量检测设备(包括岳麓山、丹霞山、蓬莱山、莫干山、天门山、沂蒙山、赤壁山、功率检测RATE系列)等。

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