在SEMICON China 2025展会上，深圳新凯来工业机器有限公司（SiCarrier）展示了其核心半导体设备，这些设备均以中国名山命名，对标国际先进水平。新凯来此次展出的五大设备，包括外延沉积设备“峨眉山”、刻蚀设备“武夷山”、薄膜沉积设备“长白山”、物理气相沉积设备“普陀山”和原子层沉积设备“阿里山”，展示了其在第三代半导体材料、高压芯片制造、静电卡盘、12英寸晶圆适配以及7nm以下先进制程等方面的技术实力。新凯来强调设备“100%自主可控”，并已开始量产应用于国内半导体制造企业。公司致力于解决先进制程问题，展现了中国半导体设备厂商的雄心与潜力。

⛰️ 外延沉积设备EPI“峨眉山”：专攻第三代半导体（SiC、GaN）材料，支持1200V-6500V高压芯片制造，并与深圳第三代半导体创新中心中试线协同验证，外延层是半导体制造中的重要技术。

🏞️ 刻蚀设备ETCH“武夷山”：搭载自研静电卡盘专利（CN119069414A），表面电荷释放速度提升40%，良率显著提升，ETCH蚀刻是半导体制造工艺中的重要步骤。

🌲 薄膜沉积设备CVD“长白山”：集成反射结构专利（CN119620268A），体积缩小30%的同时效率提升，已通过ISO 9001认证，CVD化学气相沉积是半导体制造中需求量最大的设备之一。

🏝️ 物理气相沉积设备PVD“普陀山”：适配12英寸晶圆，定位精度达±1.3μm，性能对标国际主流水平。

🏔️ 原子层沉积设备ALD“阿里山”：支持7nm以下先进制程，已通过中芯国际（深圳）产线验证。

在上海国家会展中心举行的2025中国国际半导体设备和材料展（SEMICON China 2025）上，深圳新凯来工业机器有限公司（SiCarrier，以下简称“新凯来”）成为全场焦点。新凯来通过照片和模型的方式展示了其多款产品，其中最受关注的五大核心设备，均以中国名山命名，技术对标国际顶尖水平。包括：

外延沉积设备EPI“峨眉山”：专攻第三代半导体（SiC、GaN）材料，支持1200V-6500V高压芯片制造，与深圳第三代半导体创新中心中试线协同验证；EPI外延层是半导体制造中的重要技术。

刻蚀设备ETCH“武夷山”：搭载自研静电卡盘专利（CN119069414A），表面电荷释放速度提升40%，良率显著提升；ETCH蚀刻是半导体制造工艺，微电子IC制造工艺以及微纳制造工艺中的一道相当重要的步骤。

薄膜沉积设备CVD“长白山”：集成反射结构专利（CN119620268A），体积缩小30%的同时效率提升，已通过ISO 9001认证；CVD化学气相沉积是半导体制造中需求量最大的设备之一。

物理气相沉积设备PVD“普陀山”：适配12英寸晶圆，定位精度达±1.3μm，性能对标国际主流。

原子层沉积设备ALD“阿里山”：支持7nm以下先进制程，已通过中芯国际（深圳）产线验证。

这是新凯来自成立以来，第一次向外界大规模进行产品与技术展示。新凯来称其设备“100%自主可控”，包括机器控制系统、关键元件等，全都为自主研发或通过战略合作伙伴取得。此次虽未官宣设备可支持制程节点，但有现场工作人员透露，包括未列入产品清单的蚀刻工具在内，部分设备已可支持到5纳米制程。

图源：新凯来

去年3月，彭博社称，华为与一家名为“新凯来”的半导体设备厂商，为一种技术复杂度低，但能有效制造先进芯片的方法，申请了专利。这种方案在没有极紫外光的支持下，通过多重曝光，尝试生产5nm芯片。

资料显示，新凯来工业机器成立于2022年，母公司新凯来技术有限公司成立于2021年，由深圳市重大产业投资集团全资控股，而后者隶属深圳国资委。深圳市重大产业投资集团也是鹏芯微以及昇维旭等的主要支持者。

近日，新凯来宣布已完成13类关键量检测产品开发，并在国内逻辑、存储和化合物的主要半导体制造企业开始量产应用。新凯来量检测装备产品线总裁郦舟剑在接受媒体采访时表示，“当前首要解决先进制程问题，国外工艺节点已经走的更领先，我们也会朝这个方向持续地努力，这需要时间，但我们有信心。”