三星电子近日在其华城园区引入了首台ASML生产的High-NA EUV光刻机EXE:5000，价值高达24.88亿元人民币。作为全球唯一供应商，ASML通过增大透镜和反射镜尺寸，将数值孔径提升至0.55，显著提高了光刻精度，是2nm及以下制程的关键。High-NA EUV设备能够实现更窄的电路线宽，从而降低功耗并提升数据处理速度。三星计划构建2nm工艺生态系统，加速商业化进程，以提升其在晶圆代工市场的竞争力。目前，三星在2023年第四季度全球晶圆代工市场排名第二，市场份额为8.1%，落后于台积电的67%。

🔬三星电子斥巨资引入ASML的High-NA EUV光刻机EXE:5000，标志着其在先进制程技术上的重要布局。该设备价值高达24.88亿元人民币，是实现2nm及以下制程的关键工具。

📈High-NA EUV光刻机通过提升数值孔径至0.55，显著提高了光刻精度，能够实现更窄的电路线宽，从而降低功耗并提升数据处理速度。这对于三星在高性能计算和移动设备等领域的芯片制造至关重要。

🎯三星计划在完成设备安装后，全面构建2nm工艺生态系统，加速2nm工艺的商业化量产。尽管三星在GAA工艺转换上领先，但商业化速度仍需提升，以缩小与台积电在晶圆代工市场份额上的差距。

据韩国媒体报道，三星电子已于本月初在其华城园区引入首台ASML生产的High-NA EUV光刻机——EXE:5000，价值高达5000亿韩元（约合24.88亿元人民币）。ASML是目前全球唯一能够提供此类设备的供应商，其通过增大透镜和反射镜尺寸，将数值孔径（NA）从0.33提升至0.55，显著提高了光刻精度，是2nm及以下制程的必备工具。

与现有EUV设备相比，High-NA EUV能够实现更窄的电路线宽，从而降低功耗并提升数据处理速度。

三星电子计划在完成设备安装后，全面构建2nm工艺生态系统，三星晶圆代工业务部负责人强调，尽管公司在GAA工艺转换上领先，但在商业化方面仍需加速，2nm工艺的快速量产是其首要任务。

TrendForce数据显示，三星在2023年第四季度全球晶圆代工市场排名第二，但其收入环比下降1.4%，市场份额仅为8.1%。

相比之下，台积电以67%的市场份额保持领先地位，此次引入High-NA EUV光刻机，三星有望加速其在先进制程上的商业化进程。