三星近日与长江存储达成3D NAND混合键合专利许可协议,将在下一代V10 NAND中使用长江存储的“晶栈(Xtacking)”技术。三星计划在2025年下半年量产V10 NAND,堆叠层数将达到420至430层。由于层数超过400层时底层外围电路压力增大,三星决定引入W2W混合键合技术以提高芯片可靠性、性能和散热能力。长江存储早在四年前就率先应用该技术并建立了完善的专利布局。业内人士指出,三星几乎无法绕开长江存储的专利,因此选择专利授权以降低风险,加速研发。SK海力士也在开发类似技术,未来可能也需与长江存储达成协议。
🤝三星与长江存储签署3D NAND混合键合专利许可协议,标志着三星将在其下一代V10 NAND产品中使用长江存储的“晶栈(Xtacking)”技术。
🚀三星计划于2025年下半年量产下一代V10 NAND,该产品堆叠层数预计将达到420至430层,这将显著增加底层外围电路的压力,影响芯片的可靠性。
💡为了应对高层数带来的挑战,三星将在V10 NAND中引入W2W混合键合技术。该技术通过直接贴合两片晶圆,无需传统凸点连接,从而缩短电气路径,提高性能与散热能力,同时优化生产效率。
🔒长江存储早在四年前就率先将混合键合技术应用于3D NAND制造,并命名为“晶栈(Xtacking)”,同时建立了完善的专利布局。业内人士指出,三星几乎无法绕开长江存储的专利布局。
快科技2月24日消息,据韩国媒体报道,三星近日与长江存储签署了3D NAND混合键合专利许可协议,从第10代V-NAND(V10)开始,将使用长江存储的专利技术,特别是在“混合键合”技术方面。
三星计划在2025年下半年量产下一代V10 NAND,预计堆叠层数将达到420至430层,当层数超过400层时,底层外围电路的压力会显著增加,影响芯片的可靠性。为了解决这一问题,三星决定在V10 NAND中引入W2W混合键合技术,该技术通过直接将两片晶圆贴合,无需传统凸点连接,从而缩短电气路径,提高性能与散热能力,同时优化生产效率。而早在四年前,长江存储就率先将混合键合技术应用于3D NAND制造,并命名为“晶栈(Xtacking)”,同时建立了完善的专利布局。业内人士指出,目前掌握3D NAND混合键合关键专利的公司包括美国Xperi、中国长江存储和中国台湾台积电,三星几乎无法绕开长江存储的专利布局。因此三星最终选择通过专利授权方式达成协议,而非尝试规避专利,以降低未来潜在的法律和市场风险,并加快技术研发进度。此外除了三星,SK海力士也在开发用于400层以上NAND产品的混合键合技术,未来可能同样需要与长江存储达成专利授权协议。业内人士认为,未来三星在V10、V11、V12等后续NAND产品的开发过程中,仍可能需要继续借助长江存储的专利技术。
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