快科技资讯 02月23日
密度提升30%!Intel 18A工艺正式开放代工
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Intel 18A工艺做好迎接客户项目准备,上半年流片。该工艺是北美率先量产的2nm以下节点,有众多行业伙伴。原20A工艺计划改变,18A工艺产品今年下半年量产发布,相比Intel 3有能效和密度提升。台积电N2工艺也在推进。

Intel 18A工艺已做好客户项目准备,上半年流片

有35家行业生态伙伴,涵盖多领域

原20A工艺计划改变,18A产品下半年量产

18A工艺相比Intel 3能效提升最多15%,密度提升最多30%

快科技2月23日消息,Intel官方网站悄然更新了对于18A(1.8nm级)工艺节点的描述,称已经做好了迎接客户项目的准备,将在今年上半年开始流片,有需求的客户可以随时联系。

Intel宣称,这是在北美地区率先量产的2nm以下工艺节点,已经有多达35家行业生态伙伴,涵盖EDA芯片设计工具、IP知识产权、设计服务、云服务、航空国防等各个领域。

Intel原本计划在20A(2nm级)工艺上首次引入RibbonFET全环绕晶体管、PowerVia背部供电两大关键工艺,从而反超台积电,重夺制程工艺领导地位。

但是按照官方说法,18A工艺进展顺利,超出预期,因此原计划在Arrow Lake处理器上首次采用的20A工艺取消(改为台积电N3代工),下一步直接转入18A。

Intel首款采用18A工艺的自家产品是代号Panther Lake的下代移动处理器,今年下半年量产并发布,明年还会有代号Clearwater Forest的新一代至强处理器。

按照Intel的说法,18A工艺相比Intel 3能效提升最多15%,密度提升最多30%。

台积电方面,计划今年底开始量产N2 2nm级工艺,首款产品明年上市,首发客户还是苹果。

根据已有资料,台积电N2的晶体管密度更高一些,Intel 18A则在性能方面有优势,但还要看具体产品。

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